Gebraucht KLA / TENCOR 2552 #293616227 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2552 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein vielseitiges, schnelles und genaues Erkennungssystem, das Scannen einer Vielzahl von Materialien bietet. Es funktioniert, indem es das zu inspizierende Objekt mit einer Lichtquelle beleuchtet und dann ein Bild des Objekts mit einer hochauflösenden CCD-Kamera oder einem optischen Mikroskop aufnimmt. Das Gerät ist in der Lage, kritische Abmessungen und Merkmalserkennungen an allen Arten von Matrizen, Masken und Wafermaterialien zu messen, von Wafer- und MEMS-Geräten bis hin zu nanoskaligen Funktionen. Die Inspektionsmaschine bietet fortschrittliche bildgebende Funktionen, schnelle Datenerfassungsgeschwindigkeiten, Echtzeit-Bildverarbeitung und eine anspruchsvolle Analyse-Engine, die einfach bedient werden kann. Die KLA 2552 bietet mit ihrer automatisierten Mikroskopkamera und dem optischen Fokusregister eine automatisierte, hochauflösende Abbildung selbst anspruchsvollster Stanz- und Maskenmesstechnik-Aufgaben. Das dielektrische Barrier Tool (DBS) bietet noch mehr Leistung und ermöglicht eine effiziente Sammlung von Terabyte von Daten im Bereich der hochauflösenden Bildgebung und Datenerfassung. Die DBS-Funktion verwendet einen fortschrittlichen Signalverarbeitungsalgorithmus, der eine signifikante Verbesserung bei der Erkennung von Defekten und anderen Funktionen auf einer Form oder Maskenoberfläche bietet. Darüber hinaus verfügt die Anlage über einen einstellbaren Arbeitsabstand, der bei Bedarf zwischen 8 und 20 mm eingestellt werden kann und somit ideal für die Inspektion größerer Matrizen geeignet ist. Ergänzt wird dies durch sein fortschrittliches optomechanisches Design, einschließlich des Microner Opti-stabilen Specular Finish, das sicherstellt, dass die innerhalb des Modells platzierten optischen Filter während des gesamten Inspektionsprozesses stabil und zuverlässig sind. TENCOR 2552 Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung kommt auch mit einer Vielzahl von anderen Fähigkeiten und Funktionen, die es ermöglichen, die Genauigkeit und Wiederholbarkeit jedes Inspektionsauftrags zu maximieren. Dazu gehören automatisierte Datenanalyse, Metadatenerfassung und Benachrichtigung über Testergebnisse, die zuverlässige und wiederholbare Testergebnisse ermöglichen. Darüber hinaus kann sein erweiterbares Softwarepaket zusätzliche Funktionen bereitstellen, einschließlich der Erkennung von Funktionen und Quellenerkennung, Fehlererkennung und -analyse, Flächendeckungsanalyse und Prozessanalyse. Das umfassende Softwarepaket umfasst auch Wafer-Mapping-Software und Registrierungsmarken-Tools, die die Genauigkeit der Datenerfassung und Ergebnisse des Systems erhöhen. All dies macht das Gerät zu einer idealen Lösung für jede Masken- oder Wafer-Inspektionsaufgabe. Wer eine effektive, effiziente und zuverlässige Inspektionsmaschine für Stanz-, Masken- oder Waferanwendungen sucht, sollte nicht weiter als 2552 suchen.