Gebraucht KLA / TENCOR 2552 #293800563 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2552 Mask & Wafer Inspection Equipment ist eine leistungsstarke optische Inspektionslösung zur Erkennung von Defekten in Halbleitermasken, Wafern und Photomasken. Mit seinen kontrastreichen Bildgebungsfunktionen bietet KLA 2552 eine schnelle, automatisierte Reduzierung von Fehlermeldungen, was die Prüfgenauigkeit und den Durchsatz verbessert. Die fortschrittlichen optischen Technologien des Systems umfassen die Erkennung und Abbildung von ultrafeinen Linienbreiten und flachen Oberflächen, hochempfindliche Echtzeit-Kontrastanpassungen, die automatische Erkennung von Merkmalen und Fehlern und die Weitfeldanalyse für kleine Funktionen. Alle diese Funktionen sind in eine einzigartige modulare Plattform mit einem schnellen Inspektionsprozess integriert. Das Herzstück von TENCOR 2552 ist seine fortschrittliche Kontrast-Bildgebungstechnologie, die es dem Gerät ermöglicht, Merkmale und Defekte in verschiedenen Masken- und Wafersubstraten genau zu erkennen und zu klassifizieren. Mit seiner Einzelquellen-Beleuchtungsmaschine ist das Werkzeug in der Lage, extrem kleine 0,1 μ m Linien und Räume zu erkennen, kleiner als das menschliche Auge sehen kann. Die leistungsstarken Kontrastdetektoren messen und kategorisieren den Kontrast jedes Merkmals oder Defekts genau, so dass das Asset diejenigen identifizieren und kennzeichnen kann, die nicht vorgegebenen Kriterien entsprechen. Das Modell nutzt auch seine patentierte Linie-Raum-Messfunktion, um kritische Räume zwischen Linienpaaren genau zu messen und Kontrasteinstellungen für eine konsistente und genaue Fehlererkennung anzupassen. Dies bietet einen qualitativ hochwertigen Prozess und hilft bei der Beseitigung von Fehlalarmen. Darüber hinaus bietet 2552 eine breite Palette von bildgebenden Modi, einschließlich Hellfeld, Dunkelfeld, Farbe und polarisiert, so dass Benutzer ihre bildgebenden Anforderungen anpassen können, um verschiedenen Substrat- und Prozessanforderungen gerecht zu werden. Insgesamt bietet KLA/TENCOR 2552 Mask & Wafer Inspection Equipment das höchste Maß an Genauigkeit und die breiteste Palette an bildgebenden Funktionen, die in der optischen Inspektion verfügbar sind. Die fortschrittlichen optischen Technologien und der automatisierte Erkennungsprozess des Systems ermöglichen eine schnelle, präzise und zuverlässige Inspektion von Masken- und Wafersubstraten.