Gebraucht KLA / TENCOR 259 #9396111 zu verkaufen

KLA/TENCOR 259 ist eine automatische, automatische Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Inspektion von Halbleiterscheiben und -masken zur Identifizierung von Fehlern. Es verwendet eine fortschrittliche, hochauflösende Optik, um Anwendern zu ermöglichen, auch kleinste Fehler oder Unregelmäßigkeiten auf den Wafern und Masken zu erkennen. KLA 259 ermöglicht die Inspektion von Wafern und Masken bei jeder Vergrößerung, bis zu einem beeindruckenden 50x bis 250x Zoombereich, und verfügt über die bewährte Advanced-Scanning Automated MultiPoint Sensing (MPS) Technologie. MPS verwendet innovativen Laserstrahl-Autofokus, um Oberflächenunregelmäßigkeiten zu messen, die beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit bieten. TENCOR 259 verfügt zudem über ein automatisiertes AutoAlignment-System, mit dem Benutzer ihre Wafer oder Masken schnell und präzise in den Inspektionsbereich ausrichten können. Das Gerät bietet Benutzern außerdem eine hochautomatisierte Defect Management Machine, um Fehlerinformationen zu verwalten und zu speichern und manuelle Eingriffe zu minimieren. 259 ist mit einer robusten Plattform entwickelt, um Konsistenz und Genauigkeit der Ergebnisse zu gewährleisten, und verfügt über mehrere Funktionen, um Benutzerfehler oder Fehlstellungen zu verhindern. Es enthält ein patentiertes, selbstkalibrierendes Mask Inspection Tool (MIT), das Änderungen in der Ausrichtung der Maske überwacht und die Optik als Reaktion sofort anpasst. Das MIT prüft auch die Masken auf Mikrofehler bis hin zu Sub-Mikron-Größen und speichert mehrere Maskentypen und ermöglicht eine automatisierte Maskeninspektion mit minimalem manuellen Eingriff. Das Tool bietet auch fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen, die die Bilddaten in Echtzeit analysieren und interpretieren und eine schnelle und genaue Fehlererkennung ermöglichen. KLA/TENCOR 259 ist auch für einen zuverlässigen, wartungsarmen Betrieb konzipiert und umfasst eine umfassende, benutzerfreundliche Benutzeroberfläche zur Steuerung, Überwachung und Konfiguration des Assets. Diese Schnittstelle ist auf einer Vielzahl von Plattformen verfügbar, einschließlich PC, Mac, Linux und SGI, um Benutzern einen flexiblen Betrieb zu ermöglichen. Darüber hinaus ist das Modell erweiterbar und kann an spezifische Bedürfnisse und Anforderungen angepasst werden. Abschließend ist KLA 259 eine fortschrittliche automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die für Halbleiteranwendungen entwickelt wurde und eine beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Mit fortschrittlichen Optik-, MPS- und AutoAlignment-Systemen bietet das System volle Kontrolle über den Inspektionsprozess und verfügt über ein MIT, das Mikrofehler genau erkennt. Darüber hinaus bietet die Benutzeroberfläche eine intuitive Bedienung über mehrere Plattformen hinweg und eine vollständige Flexibilität und Erweiterbarkeit.