Gebraucht KLA / TENCOR 259HR #293635801 zu verkaufen

KLA/TENCOR 259HR ist eine leistungsstarke und hocheffiziente Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine Komplettlösung für die Herstellung fortschrittlicher Prozessknoten bietet. Die KLA 259HR ist die neueste Ergänzung zur KLA-Palette automatisierter, digitaler Verteilermasken und Wafer-Inspektionssysteme. TENCOR 259HR bietet ein hochgenaues optisches Abbildungssystem, das in der Lage ist, eine breite Palette von Wafern, Masken und anderen mikroelektronischen Komponenten auf Defekte, Ungleichmäßigkeit und Morphologie zu überprüfen. Die Einheit ist für Prozessknoten von 8 + bis 16 + Nanometern optimiert und verfügt über ein 110 mm Sichtfeld (FOV). Es hat eine sehr hochauflösende Submikronbildaufbereitungsmaschine und ein Standarddefinitionsvideo Schauwerkzeug. 259HR können Anomalien von 0,5 bis 10 μ m erkennen. Das bildgebende Asset ist mit Algorithmen für mehrere Mustertypen ausgestattet, die die Erkennung und Abbildung von Defekten und Partikeln ermöglichen. Das Modell bietet auch anspruchsvolle Kanten- und Topographie-Bildgebungsfunktionen. KLA/TENCOR 259HR enthält eine umfangreiche Bibliothek mit Bildverarbeitungsalgorithmen, die es ermöglicht, eine Mustererkennung durchzuführen und eine Vielzahl von Defekten zu identifizieren, einschließlich Kratzern, Loch- und Staubpartikeln. Das Gerät ist auch in der Lage, komplexe Muster wie Tonhöhe, Tonhöhenvariation und Kantenintegrität zu charakterisieren, was es zu einem leistungsstarken Werkzeug zur Identifizierung von lithographischen Fehlern sowie zur Verfolgung von Maskenfehlstellungen und anderen prozessbezogenen Effekten macht. Das System umfasst auch eine Reihe von erweiterten Funktionen, wie Echtzeit-globale Überwachung, dynamische Bildgebung und Ferndiagnose. KLA- 259HR können über 200 Bilder pro Wafer speichern, wodurch Zeit und Aufwand bei der Fehlerinspektion, Analyse und Überprüfung minimiert werden. Es ist auch kompatibel mit mehreren branchenüblichen Datenformaten, um eine schnelle, effiziente und zuverlässige Integration in bestehende Masken- und Wafer-Produktionslinien zu gewährleisten. Insgesamt ist TENCOR 259HR eine hochentwickelte Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die eine Komplettlösung für die Herstellung fortschrittlicher Prozessknoten bietet. Die ausgeklügelte Bildverarbeitungsmaschine und die Reihe von Verarbeitungsalgorithmen machen es zu einer idealen Wahl für die automatisierte Überwachung und Fehlerinspektion. 259HR ist in der Lage, eine breite Palette von Fehlern zu erkennen und zu charakterisieren und kann über 200 Bilder pro Wafer speichern, was es zu einem leistungsstarken Werkzeug für lithographische Prozesskontrolle und Qualitätssicherung macht.