Gebraucht KLA / TENCOR 2800 #9189035 zu verkaufen
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ID: 9189035
Wafergröße: 8"-12"
Weinlese: 2007
Inspection systems, 8"-12"
1600pps Mercury
Image computer
Minimum pixel: 90nm
DUV 750mw Lamp
OS: Win2000 / DELL 2800
2007 vintage.
KLA/TENCOR 2800 ist eine automatisierte, hochempfindliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur präzisen optischen Inspektion von Photomasken und Retikeln, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Das KLA 2800 System verwendet leistungsstarke Optik, fortschrittliche Bildverarbeitungstechniken und automatisierte Inspektionstechniken, um Retikel und Masken schnell auf Defekte, Partikel, Kontaminationen und andere Unregelmäßigkeiten zu scannen. Mit seiner innovativen NIR-Erkennungsfunktion kann TENCOR 2800 kleinste Defekte und Partikel bei hohen Geschwindigkeiten und hoher Präzision erkennen. 2800 verfügt über ein patentiertes Active Probe (AP) -Werkzeug, eine fortschrittliche Scantechnologie, die es dem Gerät ermöglicht, äußerst komplizierte Bereiche wie kleinere Funktionen, eingebettete Materialien und Lötverbindungen zu überprüfen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine STF-Funktion (Self-Targeting Focus), die sich automatisch auf die Substratoberfläche für klare Bilder und genaue Messungen konzentriert. KLA/TENCOR 2800 soll Halbleiterherstellern helfen, Ertrag und Produktqualität zu maximieren. Es ermöglicht ihnen, schnell und präzise Fehler zu erkennen, um Scheinfehleranrufe zu verhindern. Das Tool bietet auch schnelle und zuverlässige E-Beam Direct Write Part Platzierungsgenauigkeit und Tracking, um direkte Schreibprozesse mit höherer Geschwindigkeit zu ermöglichen. Die KLA 2800 verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und umfasst eine automatisierte Datenerfassung, -analyse und -berichterstattung. Es kann benutzerdefinierte Berichte über die Qualität und den Zustand von Teilen, Bilder der Fehler, Datenanalysetabellen und mehr generieren. TENCOR 2800 hat sich in einer Vielzahl von Produktionsumgebungen als zuverlässig erwiesen und liefert höchste Qualitätskontrollergebnisse. Es ist eines der fortschrittlichsten Masken- und Wafer-Inspektionssysteme auf dem Markt und ideal für Halbleiter- und andere mikroelektronische Gerätehersteller.
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