Gebraucht KLA / TENCOR 2800 #9216009 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2800 Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung ist entworfen, um hohen Durchsatz und hohe Genauigkeit vor Ort Halbleiter Prozesssteuerung zu bieten. KLA 2800 nutzt 3D-Inspektion und fortschrittliche Analysen, um den Prozesserfolg kontinuierlich zu überwachen und zu verbessern. Das TENCOR 2800 Wafer-Inspektionssystem wurde zur schnellen und genauen Auswertung der FAB-Prozessbedingungen einschließlich Maskenmaß und Position (CDM, DPM) und reflektierender Folientopographie entwickelt. Das Gerät verwendet chemische und physikalische Charakterisierungstechniken, um kritische Abmessungen und Filmdicke von Photoresist und Abscheidungsschichten auf Wafern zu messen. Es verfügt über einen automatisierten Workflow, der sowohl Optik als auch Hardware kombiniert, um eine hohe Wiederholbarkeit und Geschwindigkeit zu erreichen. 2800 Maschine ist mit mehreren Hardwarekomponenten ausgestattet, vor allem einem Split-Domino Maske Aligner, einem hochauflösenden Messwerkzeug und einem Vision-Tool, das sowohl morphologische als auch andere Mustererkennungsalgorithmen enthält. Das 3D-inspection Tool ermöglicht eine schnelle CD/OPC Messung und Analyse. Darüber hinaus verfügt KLA/TENCOR 2800 über eine integrierte Messtechnik-Kammer, die physikalische Eigenschaften von Filmschichten extrahiert und analysiert. Dies trägt dazu bei, dass die optischen Parametermessungen der Substratschichten kundenspezifischen Vorgaben entsprechen. KLA 2800 Maske & Wafer Inspektionsmodell bietet eine leistungsstarke Suite von erweiterten Analyse- und Data-Mining-Fähigkeiten für Kunden. Dies beinhaltet die Möglichkeit, Prozessanomalien zu erkennen und wichtige Parameter im Laufe der Zeit zu verfolgen, um Trends zur Prozessverbesserung zu erkennen. Benutzer können benutzerdefinierte Regeln für die Erkennung von Materialschichtdefekten festlegen, die Prozesskonsistenz über Wafer maximieren und die Signalklassifizierung automatisieren. TENCOR 2800 Maske & Wafer Inspection Equipment gewährleistet eine genaue und zuverlässige Prozesscharakterisierung bei höheren Geschwindigkeiten als je zuvor. Es bietet branchenführende Prozessausbeute, Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Das System hat den Halbleiterherstellungsprozess revolutioniert und es fab-Betreibern ermöglicht, ihre Prozesse für einen langfristigen Erfolg zu optimieren.