Gebraucht KLA / TENCOR 2810 #9169784 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2810 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für eine präzise, automatisierte Inspektion von Photomasken und Wafern mit defektkritischen Merkmalen entwickelt wurde. Dieses System kombiniert hervorragende bildgebende Leistung, fortschrittliche messtechnische Funktionen mit benutzerfreundlicher Software und bietet eine Lösung, die auf die anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterinspektion und -überprüfung zugeschnitten ist. Die KLA 2810 umfasst die neuesten Hardware- und Softwaretechnologien, um zuverlässige und wiederholbare Daten bereitzustellen und gleichzeitig eine präzise Positionierung und Strobe-Ausrichtung zu gewährleisten, um fehlerfreie Starts und einen präzisen Betrieb zu gewährleisten. Das Gerät ist einfach einzurichten und zu bedienen, und seine automatisierten Messsysteme, optische Mustererkennung und erweiterte Fehlerüberprüfungsfunktionen ermöglichen eine schnelle und genaue Überprüfung selbst der anspruchsvollsten Wafer-Designs. Die 5-Achsen-Konfiguration von TENCOR 2810 ermöglicht den Zugriff auf alle Hauptkomponenten und ermöglicht eine präzise und wiederholbare Registrierung der Maske. Die Maschine umfasst eine zweistufige fernokulare Stereoansicht, die eine präzise und wiederholbare Bildgebung über komplexe Strukturen und Merkmale hinweg ermöglicht, die in einem herkömmlichen Mikroskop nur schwer oder gar nicht sichtbar sind. 2810 nutzt die neueste Beleuchtungstechnologie, einschließlich Dunkelfeld, schrägem Winkel und KLA patentierten LED-Beleuchtungswerkzeug, die Licht Flare reduziert und verbessert die Fehlersichtbarkeit. Es kann mit Hilfe seiner bordeigenen Schrittmuster-Erkennungsalgorithmen schnell große Flächen inspizieren und den Standort parametrischer Defekte identifizieren. Darüber hinaus ist die KLA/TENCOR 2810 in der Lage, die lichtempfindlichen Schichten der Maske zu inspizieren und somit Fehldetektionen zu reduzieren. Die KLA 2810 beinhaltet auch eine umfassende Suite von Software-Tools, einschließlich TENCOR-Fehlerdatenmanagement-Software, die eine Analyse und Überprüfung von Daten aus mehreren Quellen ermöglicht. Das Asset verfügt auch über eine leistungsstarke Benutzeroberfläche für die Zusammenarbeit und Fehlerüberprüfung. Mit seinem innovativen Design, fortschrittlichen Bildgebungsfähigkeiten, vielseitigen Software-Tools und benutzerfreundlicher Bedienung ist das Masken- und Waferinspektionsmodell TENCOR 2810 ein unschätzbares Werkzeug für die Überprüfung und Analyse von Halbleiterdefekten.