Gebraucht KLA / TENCOR 2810 #9227348 zu verkaufen

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ID: 9227348
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Inspection system, 12" Sub process: Bright inspection Material / Chemical: OX/Si Operating system: Windows SMIF / FOUP Safety standard: SEMI S2-0703 (2) ASYST Isoport Load ports YASKAWA Transfer arm (Robot) KLA / TENCOR Chamber Main body EFEM UI Power unit Blower IMC Missing parts: (2) TDI FEC (2) 0102810-002 (E) Assy, Galil DMC-2183 SAC SABB AMP SS 16 LS 002 (E), ESTED, SERIA SMAC Board (2) Auto focus boards PS1 PS2 X-AMP (2) Y-AMP Z-AMP (2) FRU Assy PCA Active ISO AMP V3 5XX 2009 vintage.
KLA/TENCOR 2810 ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die Fehler an Wafern und Masken erkennen und die Abmessungen, Formen und die Platzierung von Merkmalen auf dem Wafer genau messen kann. Die KLA 2810 wurde entwickelt, um die hohen Genauigkeitsanforderungen der heutigen Halbleiterbauelementfertigung zu erfüllen. TENCOR 2810 System verwendet ein 10X Mikroskop, um Fehler in einer Halbleitereigenschaftsgröße bis zu 1/4 Mikron genau zu messen und zu identifizieren. Hochentwickelte Algorithmen in der Einheit ermöglichen es, Fehler von perfekt geformten Funktionen mit bemerkenswerter Genauigkeit zu finden und zu unterscheiden. Die Maschine kann bis zu 3 Chips gleichzeitig scannen und messen, was einen extrem schnellen Durchsatz ermöglicht. 2810 ist in der Lage, sowohl elektrische als auch physikalische Defekte, einschließlich Partikel, Hohlräume, Gate und Kontaktshorts, Versetzungen, Hohlräume, Linienbreiten und Linienkantenrauhigkeiten, über Seitenwände und Formderivate zu erkennen. Das Werkzeug ist auch in der Lage, sowohl Dunkelfeld und Hellfeld Bildgebung, sowie Streuung, die es ermöglicht, Fehler unter der optischen Auflösung Grenze zu erkennen. Neben den erweiterten optischen Erkennungsfunktionen von KLA/TENCOR 2810 ist das Asset auch in der Lage, eine breite Palette von Messungen durchzuführen, einschließlich Overlay, Pitch, Breite, Länge und Fläche. Das Modell bietet auch eine Schnittstelle zu einer externen automatischen Fehlerüberprüfung (ADR), die es KLA 2810 ermöglicht, Fehler schnell und effizient anhand vorgegebener Regeln und Muster zu klassifizieren und zu klassifizieren. TENCOR 2810 ist ein vielseitiges, hochpräzises Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das auf die Erkennung und Messung von Fehlern mit unübertroffener Genauigkeit und Wiederholbarkeit ausgelegt ist. Das Gerät ist in der Lage, eine Vielzahl von elektrischen und physikalischen Eigenschaften in einem einzigen, schnellen, automatisierten Prozess zu erfassen und zu messen. Dank seiner fortschrittlichen Algorithmen und Bildgebung können 2810 Fehler bis auf 1/4 Mikron-Niveau erkennen und gleichzeitig Wiederholbarkeit bieten, indem die Verifikations- und Messvorgänge mit einem einzigen Klick wiederholt werden. Damit ist KLA/TENCOR 2810 ein wertvolles Werkzeug im Halbleiterherstellungsprozess.
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