Gebraucht KLA / TENCOR 2835i #9384468 zu verkaufen

KLA/TENCOR 2835i ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die verwendet wird, um kleine Mängel und Ungleichförmigkeiten auf Photomasken und Wafern zu erkennen. Es verwendet eine einzigartige und fortschrittliche Kombination aus fortschrittlicher Bildgebungstechnologie und spezialisierten Software-Algorithmen, um detaillierte Informationen über das gesamte Spektrum von Gerätedefekten bereitzustellen, von Anomalien auf Oberflächenebene bis hin zu Kontaminationen und Materialstörungen. Das System enthält einen hochauflösenden Abbildungskopf, der auf mikroskopischer Ebene Bilder der Merkmale auf den Photomasken oder integrierten Schaltungen aufnimmt. Der Abbildungskopf wird von einem Pentium-Computer mit 4 GB RAM und bis zu 64 GB Festplattenspeicher angetrieben. Eine dedizierte, automatisierte Wafer-Handling-Einheit positioniert den Wafer präzise im Blickfeld des Abbildungskopfes und ermöglicht eine genaue Fehlerortung und -prüfung. KLA 2835i bietet sowohl Licht- als auch Dunkelfeld-Bildgebung zur vollständigen Fehlererkennung. Dazu gehören sowohl topographische Messungen als auch elementare Spektren zur Identifizierung von Chemikalien und Verbindungen. Spezialisierte Software und Algorithmen messen Größe, Form und Orientierung von mutmaßlichen Fehlern, was wiederum den Anwender bei Fehlerklassifizierungen unterstützt. TENCOR 2835i kann auch eine Vielzahl von Parametern wie topologische, ultraviolette (UV), optische und Elektronenstrahl messen. Mit Hilfe fortschrittlicher Wasserscheidensegmentierungsalgorithmen, kombiniert mit einer spezialisierten funktionsbasierten Klassifizierungsmaschine, kann 2835i eine Vielzahl von Fehlern genau identifizieren, klassifizieren und messen. KLA/TENCOR 2835i ist in der Lage, Fehler kleiner als 10 nm zu erkennen und bietet eine Wiederholgenauigkeit von 1 nm (1% der Bildabmessung). Dieses hochgenaue Werkzeug ermöglicht zuverlässige Masken- und Wafer-Inspektionen in einer Vielzahl von Branchen wie Halbleiter, Beleuchtung, Optik, Solar, Biotechnologie und MEMS. Eine umfassende Fehleranalyse mit KLA 2835i ist dank der intuitiven und benutzerfreundlichen Oberfläche einfach und effizient. Es verfügt über eine integrierte manuelle Fehlerprüfung, um sicherzustellen, dass alle Fehler überprüft und dokumentiert werden. Abschließend ist TENCOR 2835i ein fortschrittliches Masken- und Waferinspektionsmodell, das eine genaue, automatisierte Fehlererkennung und -klassifizierung mit umfassender Fehleranalyse ermöglicht. Diese Ausrüstung ist effektiv in einer Vielzahl von industriellen Anwendungen, so dass es ein unschätzbares Werkzeug bei der Herstellung und Prüfung von Photomasken und integrierten Schaltungen.