Gebraucht KLA / TENCOR 3200-1225-03B #9294183 zu verkaufen

KLA/TENCOR 3200-1225-03B Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ein leistungsstarkes Werkzeug, das Wafer auf Fehler untersuchen kann und eine schnelle und genaue Einstellung der Position von Werkzeugen auf einer Maske oder einem Wafer für Lithographieprozesse ermöglicht. Das System wurde entwickelt, um Wafer mit einer Linienbreite von 25 µm bis 1,2 mm zu inspizieren und Messungen mit einer Genauigkeit von +/- 0,25 µm vorzunehmen. Das Gerät enthält eine 8-Zoll-Matrize zur Maskenwiederholbarkeit von +/- 0,05 mm x 0,12 mm, eine 12-Zoll-Matrize zur Maskenwiederholbarkeit von +/- 0,04 mm x 0,13 mm und eine mehrschichtige Wiederholbarkeit von +/- 0,02 mm x 0,06 mm. KLA 3200-1225-03B Maschine wird mit einer hohen Geschwindigkeit Doppeluntersuchungslaserscanner mit einem Schritt und Wiederholungsplottenalgorithmus ausgestattet. Dieses Scan- und Plottwerkzeug kann den Laserstrahl schnell über die gesamte Oberfläche der Maske oder des Wafers bewegen und Fehler genau erkennen und verarbeiten. Das Asset verwendet dann die KLA proprietäre OCR-Technologie (Optical Character Recognition), um Funktionen auf der Maske oder dem Wafer zu identifizieren und zu messen, um sie mit Referenzstandards zu vergleichen. Darüber hinaus ist TENCOR 3200-1225-03B Modell mit spezialisierter Bildverarbeitungs- und Tracking-Software ausgestattet, die tragbare Registrierungstechnologien ermöglicht, um eine präzise Ausrichtung der Masken auf Wafer zu gewährleisten und umgekehrt. Diese Technologie gewährleistet eine ordnungsgemäße Platzierung und exakte Ausrichtung der Musterdaten und löst das Problem der Offset-Mustererzeugung. Das einzigartige schräge Kantendesign 3200-1225-03B Ausrüstung trägt weiter zu seiner Genauigkeit bei, da es in der Lage ist, das interne Musterlayout genau zu verfolgen. KLA/TENCOR 3200-1225-03B bietet zudem modernste Datenanalyse- und Reporting-Tools an, die umfassende Berichte über Inspektionsergebnisse sammeln und erstellen. Auf diese Weise können Kunden Echtzeit-Anpassungen der Produktionsabläufe vornehmen und so ein Höchstmaß an Qualitätssicherung gewährleisten. Abschließend ist KLA 3200-1225-03B Masken- und Wafer-Inspektionssystem ein hochentwickeltes Tool, das eine breite Palette von Datenerfassungs- und Analysefunktionen bietet. Es ist für präzise und genaue Masken- und Wafer-Inspektion konzipiert und bietet Kunden die Sicherheit von qualitativ hochwertigen Produkten.