Gebraucht KLA / TENCOR 3905 #9310915 zu verkaufen

KLA/TENCOR 3905 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein modernes Werkzeug, das zur Erkennung und Fehlerbehebung von Materialfehlern auf flachen Substraten während des Halbleiterherstellungsprozesses entwickelt wurde. Das System besteht aus mehreren Komponenten, die Messen, Identifizieren, Klassifizieren und Reparieren von Fehlern ermöglichen. Das Gerät verwendet eine Vielzahl von Technologien und Algorithmen, um eine hohe Genauigkeit und Leistung zu gewährleisten. Der Hauptteil der Maschine ist das beugungsbasierte optische Abbildungswerkzeug, das eine gleichzeitige Visualisierung mehrerer Schichten innerhalb der Substrate während des Inspektionsprozesses ermöglicht. Dieses Asset verwendet einen wellenlängenbasierten, mehrfachen Reflexionsansatz, um eine mehrschichtige Fehlererkennung zu ermöglichen. Es enthält auch ein gemustertes Beleuchtungs-Kontrastmodell (PICON), das Kantenerkennung und Dunkelfeldtechniken zur Verbesserung der Fehlerlokalisierungsfähigkeit verwendet. Darüber hinaus umfasst die Anlage auch Softwaremodule für Datenverarbeitung, Merkmalserkennung, Klassifizierung, Sortierung und Reporting. KLA 3905 Mask & Wafer Inspection System integriert eine Vollspektrum-Abbildungseinheit, die mehrere optische Komponenten umfasst, wie eine Lichtquelle, Detektor und optische Filter, um Fehler besser zu erkennen und zu erkennen. Diese Maschine verwendet eine innovative, adaptive Lichtfeldbeleuchtungstechnik, um maximale Leistung für großflächige Inspektionen zu gewährleisten. Es verfügt auch über eine Metrik, um jeden Fehler in eine von vielen Kategorien einzuordnen, um die Klassifizierung und Reparatur von Fehlern zu verbessern. Das Tool integriert eine neue Klasse von Echtzeit-Bildgebungstechniken, um die Geschwindigkeit der Substratinspektion zu verbessern. Dazu gehört eine Deep Defect Reconstruction, die ein modernes Deep Neurural Network (DNN) zur Rekonstruktion individueller Defektmerkmale verwendet. Das DNN kann aus einer Kombination von bildgebenden Daten eine 3D-Darstellung des Fehlers erzeugen. Mit dieser Echtzeit-Bildgebungstechnik können Fehlererkennung und -sortierung schneller abgeschlossen werden - was sowohl Zeit als auch Kosten spart. TENCOR 3905 Mask & Wafer Inspection Asset umfasst auch mehrere Autofokus- und Zoomoptiken. Es unterstützt eine Vielzahl von Auflösungen, mit denen Benutzer einzelne Fehler besser unterscheiden und analysieren können. Bei entsprechender Vergrößerung kann das Modell viele Fehler erkennen. Das Gerät verfügt außerdem über eine benutzerfreundliche interaktive webbasierte Oberfläche, mit der Benutzer den Betrieb in Echtzeit überwachen und bei Bedarf Anpassungen vornehmen können. 3905 Mask & Wafer Inspection System hat sich bereits als effizientes und kostengünstiges Werkzeug für die Halbleiterfertigung erwiesen. Es ist zuverlässig und liefert konsistente Ergebnisse für die Verbesserung der Gesamtqualität und Leistung der Elektronik. Mit dem großen Potential, das mit dieser Einheit kommt, sieht die Zukunft hell in Bezug auf die Verbesserung der Halbleiterherstellung Prozess.