Gebraucht KLA / TENCOR 45 #38072 zu verkaufen

KLA/TENCOR 45 Mask & Wafer Inspection Equipment ist für den Einsatz in Wafer-Fertigungsprozessen für Produktion und Forschung und Entwicklung konzipiert. Das System ist in der Lage, bis zu KLA 45 Wafer gleichzeitig mit einer Auflösung von bis zu 1 Mikron pro Pixel zu inspizieren. Das Gerät verfügt über eine 5-Achsen-Bühne, die programmiert werden kann, um über den Wafer zu fahren, so dass eine umfassende Abdeckung ohne zusätzliche Stufen möglich ist. Die Maschine ist mit einer Vielzahl von Bilderfassungs- und Verarbeitungstechnologien ausgestattet, einschließlich fortschrittlicher RGB, Infrarot- und UV-Beleuchtung (UV) und einem koaxialen interferometrischen Werkzeug. RGB-Beleuchtung wird verwendet, um Bildgebung mit hohem dynamischen Bereich bereitzustellen, während Infrarot- und UV-Beleuchtung es dem Asset ermöglichen, Wellenlängen zu inspizieren, die mit bloßem Auge nicht sichtbar sind. Das koaxiale interferometrische Modell ermöglicht es dem Benutzer, dreidimensionale Bilder der Waferoberfläche zu erfassen. Die Inspektionsausrüstung wird über eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) gesteuert, die auf einem Windows-PC ausgeführt wird. Auf diese Weise kann der Benutzer einfach im System navigieren, Bilder anzeigen und analysieren und Ergebnisse exportieren, um weitere Überprüfungen durchzuführen. Das Gerät ist in der Lage, eine Vielzahl von Defekten zu erkennen, darunter Partikel, Kratzer, Wraparound, Kurz- und offene Schaltungen, Brücken- und Formfehler. Darüber hinaus liefert die Maschine wertvolle Prozessrückmeldungen, indem sie automatisierte Ertragsschätzungen und Geodatenanalysen für Overlay- und Mini-Volumenzuweisungen bereitstellt. Das Tool ist hochgradig konfigurierbar, so dass Benutzer ihre eigenen Inspektionsparameter und Profile einrichten und anpassen können. Auf diese Weise können Benutzer das Asset für ihre spezifische Anwendung optimieren. Das Modell unterstützt auch eine Reihe von Dateiformaten, so dass Benutzer die Flexibilität, ihre Daten mit den neuesten Software-Tools von Drittanbietern anzeigen und analysieren. Zusammenfassend bietet TENCOR 45 Mask & Wafer Inspection Equipment eine leistungsfähige, aber flexible Plattform zur Inspektion und Analyse von Produktions- und Forschungswafern. Das System verfügt über eine breite Palette von Funktionen, von der Bilderfassung und -analyse bis zur Fehlererkennung und -rückmeldung. Mit seiner benutzerfreundlichen GUI und dem breiten Spektrum an Dateiformaten bietet das Gerät Anwendern ein hohes Maß an Flexibilität und Kontrolle über ihre Waferinspektionsprozesse.