Gebraucht KLA / TENCOR 50-03000 #9384877 zu verkaufen

KLA / TENCOR 50-03000
ID: 9384877
RS measurement system.
KLA/TENCOR 50-03000 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes Oberflächeninspektionswerkzeug für Anwendungen wie implantierbare Waferherstellung, Herstellung von optischen Prozessorchips, Herstellung von Leistungsbauelementen und fortschrittliche Halbleiterbauelemente. Das System trägt zur Gewährleistung der Integrität und Gleichmäßigkeit dieser Komponenten bei, indem es eine detaillierte berührungslose Analyse verschiedener Größen von Fertigteilen ermöglicht. Das Gerät verwendet hochauflösende Infrarot-Bildgebungs- und Scantechnologie, um eine breite Palette von Defekten wie Hügel, Hohlräume, Knoten-Dendrit-Trennung, Schritthöhen, Skelettmerkmale und lithographische Muster genau zu erkennen. Darüber hinaus kann die Maschine mehrere Fehlertypen erkennen, einschließlich absoluter, falscher und segmentierter Funktionen. Das Tool ist mit einem fortschrittlichen Bildverarbeitungsprogramm ausgestattet, das über eine F/1.4 Linse und ein 16x polarisiertes Strahlteilerfenster verfügt, das eine hervorragende Auflösung liefert, die von den meisten konventionellen Scan- und Bildverarbeitungssystemen unübertroffen ist. Es verfügt auch über ein doppeltes dichroitisches Parallelismus-Erkennungsmodell, das sowohl hohen Kontrast als auch niedrige Lichtpegel erfassen kann, um den Bereich der Fehlererkennbarkeit erheblich zu verbessern. Die Geräte verwenden die neuesten Laserbeugungs- und Dopplerbearbeitungstechniken, um den Kontrast zu erhöhen und falsche positive Effekte zu reduzieren. Seine multispektrale Bildgebung ermöglicht es ihm, eine breite Palette von Defekten in einem Durchgang genau zu erfassen, ohne dass mehrere Out-of-the-Box-Scans erforderlich sind. Darüber hinaus ist das System mit einem erweiterten Fehlersuchalgorithmus ausgestattet, um sicherzustellen, dass erkannte Fehler ordnungsgemäß klassifiziert werden, und um einen dedizierten Bericht über die Fehler für den diagnostischen Einsatz zu erstellen. Das Gerät verfügt zudem über eine schnell und einfach zu bedienende Software-Suite, mit der Anwender ihre Prozesse automatisieren und datengesteuerte Entscheidungen treffen können. Dies hat den Analyseprozess vereinfacht und es Benutzern ermöglicht, Fehler oder Anomalien leicht zu erkennen und zu lokalisieren. Die Software-Suite ist aufgrund ihrer optimierten algorithmischen und bildgebenden Verfahren in der Lage, Daten und Sichtfeld schnell und genau zu verarbeiten. KLA 50-03000 Maske & Wafer Inspektionsmaschine ist entworfen, um Herstellern zu helfen, qualitativ hochwertigere Wafer-Geräte schnell und effizient zu produzieren. Sein fortschrittliches Bildgebungstool und Fehlersuchalgorithmen bieten überlegene Fehlererkennungsfunktionen, mit denen es auch die kleinsten Fehler erkennen kann. Es verfügt auch über eine benutzerfreundliche Software-Suite, die Anwendern automatisierte Verarbeitungsfunktionen und Felddaten bietet, um sicherzustellen, dass Produkte konsistent nach höchsten Qualitätsstandards hergestellt werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor