Gebraucht KLA / TENCOR 7200 #293662762 zu verkaufen

KLA/TENCOR 7200 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für die fortgeschrittene optische Inspektion von Masken und Wafern entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von Präzisionsmessungen für die In- oder Final-Stage-Wafer-Inspektion durchzuführen, und es hat die Fähigkeit, eine Vielzahl von Materialien und Technologien zu überprüfen, einschließlich Lithographie, Resist und konstruktionsbezogene Defekte. Die fortschrittliche Optik der KLA 7200 bietet ein hochwertiges Bild, das für die kritische Überprüfung und Analyse geeignet ist. TENCOR 7200 nutzt eine fortschrittliche bildbasierte optische Inspektionseinheit mit vier Megapixel-Farblinien-/Framescan-Hybridkameras. Diese Inspektionsmaschine kombiniert sichtbare und nahinfrarote Bildgebung, um Oberflächenmikrofehler in hoher Auflösung zu erkennen. Zusätzlich werden alle Bilder durch eine Reihe einstellbarer Parameter beeinflusst, einschließlich Dynamikbereich, Helligkeit, Verstärkung und Kontrast, um die höchste Bildqualität und Fehlererkennung zu gewährleisten. Die Bildanalysetechnologie des Tools wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Defekten zu identifizieren und zu analysieren, die mit Lithographie, Resist- und Konstruktionsfehlern verbunden sind. Seine proprietäre Software-Suite ermöglicht eine einfache Programmierung und Echtzeit-Feedback, so dass das Asset sehr flexibel und leistungsstark. Darüber hinaus sorgt sein modernstes automatisiertes Wafer Handling-Modell für wiederholbare Ergebnisse, während seine automatisierte Fehlerklassifizierung einen Rahmen für eine schnelle und effektive Fehleranalyse bietet. 7200 bietet auch eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, die Genauigkeit und Effizienz gewährleisten, einschließlich automatischer Fokusanpassung, Objektivverzerrungskompensation, Mustererkennung und automatischer Fehlererkennung. Seine fortschrittliche Optik ermöglicht es dem Gerät, in gleichmäßigen und ungleichmäßigen Beleuchtungsumgebungen zu arbeiten. Darüber hinaus bietet es direkte Kompatibilität mit messtechnischen Systemen wie Rasterelektronenmikroskopen (Rasterelektronenmikroskopen) und Scannen von weißlicht-omnidirektionalen Interferometern (SWLI) zur weiteren Analyse. Darüber hinaus kann das System in einer Vielzahl von kleinen Paketen untergebracht werden, was es wirtschaftlich, einfach konfigurierbar und tragbar macht. Es ist mit einer Reihe von Monitoren kompatibel, und seine benutzerfreundliche Oberfläche ermöglicht es dem Bediener, schnell und einfach Einstellungen zu ändern und Daten zu überprüfen. Zusammenfassend ist KLA/TENCOR 7200 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die eine Vielzahl von Präzisionsmessungen für die In- oder Final-Stage-Wafer-Inspektion ermöglicht. Es bietet eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie Dynamikbereich, Helligkeit, Verstärkung, Kontrastanpassung und automatisierte Fokusanpassung und ist in der Lage, eine Vielzahl von Lithographie-, Resist- und Designfehlern zu erkennen. Mit seiner fortschrittlichen Optik und automatisierten Wafer-Handhabungsmaschine ist das Werkzeug in der Lage, wiederholbare Ergebnisse mit hoher Genauigkeit zu liefern. Schließlich ermöglicht sein flexibles Design die einfache Anpassung an eine Reihe von Umgebungen und Anwendungen.