Gebraucht KLA / TENCOR 7200 #9272631 zu verkaufen

KLA/TENCOR 7200 ist ein All-in-One-Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das sowohl eine schnelle als auch genaue Inspektion und Fehleranalyse bietet. Diese Einheit wird häufig in der Halbleiter- und Display-Industrie verwendet, um physikalische Defekte, Verunreinigungen und elektrische Fehler zu untersuchen und zu erkennen. Die Maschine KLA 7200 verwendet fortschrittliche optische Technologie, um sowohl Masken als auch Wafer schnell und präzise zu überprüfen. Das Tool kombiniert fortschrittliche Video-Stereomikroskope, telezentrische und unendliche Optik, die Fähigkeit, eine Reihe von Vergrößerungen und Tiefen des Feldes, hochauflösende und empfindliche Detektoren, leistungsstarke Bildverarbeitungs- und Bildverarbeitungssoftware und eine motorisierte XYZ Das Asset bietet auch anspruchsvolle Software und Technologien zur Fehlerklassifizierung, um verschiedene Arten von kritischen Fehlern automatisch zu klassifizieren. Das Modell verwendet eine Kombination aus hochauflösender Bildgebung und codeunterstützter Fehlererkennung zur genauen und schnellen Wafer- und Maskeninspektion. Die Bildgebungstechnologie der Geräte kann hochauflösende Bilder mit bis zu 32 Megapixeln pro Pixel aufnehmen und speichern. Darüber hinaus kann die leistungsstarke Software des Systems verschiedene Arten von Defekten erkennen, einschließlich Partikeln, Kratzern, kristallinen Defekten und Leitungsunterbrechungen. Das Gerät verfügt außerdem über eine proprietäre webbasierte Plattform, mit der Benutzer auf einfache Weise auf Inspektionsergebnisse zugreifen, diese kontrollieren und überprüfen können. TENCOR 7200 Maschine wird gebaut, um die strengen Anforderungen der Halbleiter- und Display-Industrie zu erfüllen. Es wurde entwickelt, um über mehrere Produktionsschritte hinweg hohe Durchsätze, Effizienz und Kosteneinsparungen zu erzielen. Darüber hinaus bietet das Tool eine hervorragende Umwelttoleranz, Robustheit und Leistung. 7200 ist eine vielseitige, zuverlässige und genaue Ressource, die die notwendigen Werkzeuge bietet, um physische Fehler und elektrische Fehler in Wafern und Masken schnell zu finden und zu analysieren. Es kombiniert fortschrittliche optische Technologie, ausgefeilte Software-Algorithmen und eine Vielzahl spezifischer Bildgebungs- und Probenhandhabungsfunktionen, um defekte Produkte effizient und effektiv zu identifizieren.