Gebraucht KLA / TENCOR Archer 10 AIM+ #9236397 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 10 AIM + ist eine fortschrittliche Lösung zur bildgebenden Messtechnik und Fehlerüberprüfung (AIMD) für die Masken- und Waferinspektion. Dieses Gerät verwendet eine Kombination aus Hellfeldlicht, fortschrittlicher Optik und schneller Kameratechnologie, um Fehler an Masken und Wafern zu identifizieren. Das System verwendet eine hoch markierte Punktquelle (HMPST), um genaue und wiederholbare Bilder zu beleuchten und zu erfassen. KLA Archer 10 AIM + ist basierend auf der Anwendung mit zwei verschiedenen Bildgebungsmodulen ausgestattet: Brightfield und Darkfield. Das Hellfeldmodul nutzt die Helligkeitsfeldbeleuchtung zur Fehlererkennung und Lithographie-Optimierung und beinhaltet Fokussierungs- und Abbildungsoptiken sowie Vollfeldbeleuchtung zur automatisierten Fehlerüberprüfung. Das dunklere Feld der Einheit soll die Empfindlichkeit beim Erkennen bestimmter Defekte wie Nassätzaddierer, Überbrückung und Chippen erhöhen. Die Maschine kann sowohl große Masken als auch Wafer mit einem Durchmesser von 6 Zoll bis zu einer maximalen Temperatur von 700℃ verarbeiten. TENCOR Archer 10 AIM + nutzt eine fortschrittliche Hardwarearchitektur, um eine schnelle und effiziente Datenübertragung und Bildverarbeitung zu ermöglichen. Die vom Tool gesammelten Bilddaten werden im Asset selbst gespeichert, so dass der Techniker sie jederzeit überprüfen und analysieren kann. Das Modell bietet eine breite Palette von Funktionen und Technologien, einschließlich automatischer Fehlerüberprüfung, erweiterter Datenanalyse und erweiterter Musteranpassung. Es umfasst auch Werkzeuge zur Objektbaugruppe und Fehlererkennung, um Fehler genau zu lokalisieren und zu klassifizieren. Darüber hinaus ist die Anlage in der Lage, Fehleranalysen durchzuführen, um Fehlertypen zu quantifizieren, Prozessempfindlichkeiten zu identifizieren und Fehlertopologiemeldungen zu erstellen. Um Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten, verfügt Archer 10 AIM + über einen optischen Autofokus, der in der Lage ist, eine Probe zu analysieren, um einen optimalen Fokus zu erhalten und dann die Probenvibration und -position anzupassen, um den besten Fokus wiederherzustellen. Das System hat auch eine hohe Helligkeit Option für den Einsatz in Umgebungen mit höherer Temperatur, sowie eine Option mit niedriger Leistung, um die Lebensdauer der Einheit zu verlängern. Schließlich ist KLA/TENCOR Archer 10 AIM + mit einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die eine einfache Einrichtung und Programmierung ermöglicht. Die Maschine enthält auch Echtzeit-Fehlererkennungs- und Korrekturfunktionen sowie Nachbearbeitungsalgorithmen für zusätzliche Genauigkeit. KLA Archer 10 AIM + kann Wafer- und Maskenherstellern helfen, maximale Erträge zu erzielen und zuverlässige Qualitätsdaten kostengünstig zu erhalten.