Gebraucht KLA / TENCOR Archer 10 XT #199827 zu verkaufen

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ID: 199827
Wafergröße: 8"
Overlay inspection system, 8" KLA Tencor Interface 300DFFIP: Asyst Load Ports SMIF-300FL (Qty 2) PRI Pre Aligner PRE-300B-CE PRI Robot Track TRA035-LPS Brooks Robot Controller ESC-218BT-S293 Brooks Robot ABM407B-1-S-CE-S293 X-Y Axis Stage: KLA 5300 XY Assembly Part No: 565 090 513 Leica Objective Lens HC PL Fluotap 100X/0.70 KLA 5300NT PDA Box 710-482350-001 KLA Tencor Power Distributor 10XT Trenton Computer Box with Improved PS 0059514-001 Vacuum Panel 590-480376-001 KLA Circuit Board 0051644-002 Integrated Dynamics Engineering 3000187_000 ETEl Digital Servo Drive DSB2 (Nanometer) (Qty 5) KLA Tencor Optics 720-480542-002: Coho Progressive Scan Camera 6612-3000/0000 KLA Tencor 5300NT PDA Box Assembly 710-482350-001 X-Y Axis Stage Cover: View Sonic Flat Panel LCD Monitor VGI81 Model# VLCDS21594-1 Mitsubishi Printer P91D Miscellaneous Computer Parts Software and Manuals: KLA Tencor RDM 3.3 Software and Documentation Kit Archer Product Family Version 3.10 CD ROM.
KLA/TENCOR Archer 10 XT ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um die Leistung der Halbleiterherstellung zu verbessern, indem sichergestellt wird, dass jeder Wafer nach Spezifikation hergestellt wird. Es verwendet erweiterte Rechenimaging und erweiterte 3D-Scan-Köpfe, um sicherzustellen, dass das Produkt nach den höchsten spezifizierten Standards hergestellt wird. KLA ARCHER10XT Masken- und Wafer-Inspektionssystem besteht aus fortgeschrittenen bildgebenden Systemen und automatisierten Maschinen, die die Fähigkeit haben, Wafer zu inspizieren, die im Herstellungsprozess auf Masken- oder Wafer-Unvollkommenheiten verwendet werden. Das Gerät überprüft zerstörungsfrei jede strukturierte Schicht eines Halbleiters und erkennt Prozessfehler, Kontaminationen oder andere Unregelmäßigkeiten. Die fortschrittliche bildgebende Technologie der Maschine hilft, selbst kleinste Partikel oder Anomalien zu erkennen und zu identifizieren sowie eine schnelle und genaue Fehleranalyse zu ermöglichen. Dies verbessert die Effizienz und Genauigkeit der Produktion und reduziert gleichzeitig das Risiko menschlicher Probleme. Die erweiterten 3D-Scan-Köpfe sorgen für mehr Fokus und Genauigkeit, während ein In-Line- und Auto-Print-Registrierungstool verwendet wird, das schnell genaue Bilder der Maske und des Wafers bildet. TENCOR ARCHER 10XT verfügt auch über eine Professional Workflow-Funktion, die die Job-Funktionen automatisiert und gleichzeitig das Wafer-zu-Maske-Overlay verbessert. Darüber hinaus bewertet die integrierten 3D-Analysefunktionen des Asset den Wafer schnell und erkennt Fehler oder Prozessverstöße. Diese Probleme können schnell mit einem maßgeschneiderten Algorithmus angegangen werden, um das Problem zu beheben und das Produkt von höchster Qualität zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt Archer 10 XT über eine fortschrittliche Software, die es Anwendern ermöglicht, Produktions- und Designdaten einfach in ihren Workflow für den Vergleich von Maske/Wafer, Fehlerverfolgung und Reporting zu integrieren. Diese Software ermöglicht auch Änderungsmanagement, präzise Prozesssteuerung und Produktionsoptimierung. KLA ARCHER 10XT verfügt außerdem über eine komplette Reihe von unterstützenden Anwendungen, um den kompletten Support für Kunden zu gewährleisten. Alles in allem ist TENCOR ARCHER10XT Masken- und Wafer-Inspektionsmodell ein fortschrittliches und leistungsstarkes Gerät, das die Produktion von Top-of-the-Line-Halbleitern gewährleistet. Es bietet fortschrittliche Bildgebung, vielseitige 3D-Scan-Köpfe, automatisierte Job-Funktionen und präzise Prozesssteuerung, die alle zusammenarbeiten, um höchste Qualität und Effizienz bei der Herstellung von Halbleitern zu gewährleisten.
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