Gebraucht KLA / TENCOR Archer 10 XT #9250148 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 10 XT ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die einen hohen Durchsatz und eine präzise Messtechnik für eine Reihe von Halbleiterprozessknoten bietet. KLA ARCHER10XT wurde entwickelt, um die kleinsten Merkmale zu erkennen, einschließlich Linienbreiten von 0,05 µm, so dass es ideal für Top-End-Technologie-Knoten wie 5/5nm. Das System bietet ein breiteres Sichtfeld (FOV) bis zu 20 µm und ermöglicht Standort-, Schritt- und Wiederholungsmessungen. Durch den Einsatz fortschrittlicher Algorithmen können TENCOR ARCHER 10XT die Partikelpräsenz und ihre Eigenschaften auch in extrem kontrastarmen Bildern genau bestimmen. KLA/TENCOR ARCHER10XT ist auf einem fortschrittlichen Silizium-On-Isolator (SOI) -Wafer aufgebaut, der den Nachweis von Partikeln auch in sehr kleinen Größen ermöglicht. Erweiterte Hellfeldoptik, kombiniert mit einem größeren Dynamikbereich und erweitertem Belichtungsbereich unterstützt die Fehlererkennung auf dunklen und reflektierenden Oberflächen und in allen kritischen Schichttiefen. Was das Gerät einzigartig macht, ist seine hybride Beleuchtungsmaschine, die verbessertes Dunkelfeld, helles Feld und schräge Beleuchtung für besseren Kontrast und Bildgebung kombiniert. Die fortschrittliche Software von ARCHER10XT umfasst proprietäre Algorithmen und die gleichzeitige Erfassung mehrerer Bilder für höhere Fehlerempfindlichkeit und falsche Anrufreduzierung. Das Tool bietet darüber hinaus eine breite Palette von Messtechnologien in Kombination mit dem einfach zu bedienenden „Smart-Capture“ -Werkzeug, das Inspektionseinstellungen für hohen Durchsatz, Genauigkeit und Zuverlässigkeit optimiert. TENCOR ARCHER10XT bietet auch ein einzigartiges Paket von Inspektionsmöglichkeiten, einschließlich Kantenerkennung, Merkmalserkennung und Barriereschichtmessung. Die Kantenerkennungsfunktion ermöglicht außerdem eine bessere Analyse der Maskenfunktionen, indem die vollständige kritische Maskenebene einschließlich Overlay gescannt wird. Die mit fortschrittlichen Algorithmen unterstützte Features-Erkennungstechnologie ermöglicht schnellere und genauere Messungen komplexer Formen und Muster. Schließlich bietet die Barriereschicht-Messfunktion eine Genauigkeit von bis zu 0,01 µm, was auch bei schmalen Grabenlinien eine hohe Genauigkeit der Mustermessungen gewährleistet. Kombiniert bieten diese Funktionen TENCOR Archer 10 XT eine zuverlässige und effiziente Lösung für die Masken- und Waferinspektion. Das Asset bietet fortschrittliche Messtechnik für eine Reihe von Halbleiterprozessknoten, mit Genauigkeit und Präzision in der Branche unerreicht.