Gebraucht KLA / TENCOR Archer 10 XT #9258184 zu verkaufen

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ID: 9258184
Weinlese: 2001
Overlay inspection system FOUP, 12" Install type: Stand alone Run daily pm test: PZT P High voltage PZT Z gain PZT Z feedback Halogen light source PDA gain, X, Y axis Wafer surface focus and analysis patent LINNIK camera uniformity AMS camera uniformity Check shutter response time Fringes ON to OFF mean time Fringes OFF to ON mean time GEM/SECS Line conditioner, 60 Hz Power requirements: 208/230 V, 3-Phase / 1-Phase, 50/60 Hz.
KLA/TENCOR Archer 10 XT ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es hilft, Fehler in Photomasken und Wafern schnell und genau zu erkennen und zu identifizieren. Die KLA ARCHER10XT ist mit einem automatisierten Fehlerüberprüfungssystem ausgestattet, das eine umfassende Analyse verdächtiger Funktionen ermöglicht und es Anwendern ermöglicht, mögliche Fehler in Photomasken und Wafern schnell und einfach zu untersuchen und zu beheben. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine hohe Empfindlichkeit zur Erkennung kleiner Defekte, die je nach Anwendung Auflösungsstufen von 0,7 Mikrometer bis 12 Mikrometer aufweisen können. TENCOR ARCHER 10XT verwendet 20X Laser und schnelle Optik, um die gesamte Oberfläche eines Geräts schnell zu scannen, ohne dass eine physische Probenbewegung erforderlich ist. Die Maschine wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Gerätetypen zu handhaben, einschließlich MEMS/MOEMS, Wafer und Photomasken. Seine bildgebenden Fähigkeiten eignen sich auch für den Einsatz mit fortgeschrittenen Strukturen, wie FinFETs, Fin Field-Effect Transistoren und HBLEDs, High Brightness Light Emitting Diodes. Neben der bildgebenden Fähigkeit verfügt KLA/TENCOR ARCHER 10XT über eine Reihe anspruchsvoller Softwarefunktionen, um die Geschwindigkeit und Genauigkeit des Inspektionsprozesses zu erhöhen. Das Tool kann konfiguriert werden, um alle möglichen Fehler basierend auf voreingestellten Kriterien zu identifizieren und zu kategorisieren, oder anderweitig vom Benutzer angegeben. Funktionen wie erweiterte Defekt-Clustering, exklusive Defekt-State-Maschine, und synthetische Defekt-Generation bieten detaillierte Intelligenz für erweiterte Datenanalyse. Darüber hinaus ist ARCHER10XT in der Lage, Fehlerbilder mit konfigurierbaren Beleuchtungs-, Kontrast- und Farbwerten zu erstellen und verfügt über eine leistungsstarke Nachbearbeitungssoftware mit automatischer Fehlergröße und Fehlerspeichervergleichssoftware. Auf diese Weise können Anwender Variationen des Geräts vor und nach der Inspektion einfach visualisieren und vergleichen. Das Modell unterstützt auch eine breite Palette von Schnittstellen, so dass es einfach in bestehende Produktionsprozesse integrieren. Darüber hinaus ermöglichen erweiterte Web- und Berichtsfunktionen Benutzern den Remote-Zugriff und die Analyse von Daten. Insgesamt ist ARCHER 10XT eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die schnelle und effiziente Fehlererkennung und -analyse mit überlegener Genauigkeit bietet. Die funktionsreiche Software, die bildgebenden Funktionen und die Konnektivitätsoptionen machen es zu einer wertvollen Ergänzung für jede Halbleiterherstellungsumgebung.
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