Gebraucht KLA / TENCOR Archer 10 XT+ #9261900 zu verkaufen

KLA / TENCOR Archer 10 XT+
ID: 9261900
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Overlay inspection system, 12" 2006 vintage.
KLA Archer™ 10 XT + ist eine vollautomatische High-End-Ausrüstung für die Masken- und Waferinspektion. Dieses System wurde für fortgeschrittene IC-Fertigungsanwendungen entwickelt, um Fehler in Photomasken und Wafern zu erkennen. KLA/TENCOR Archer 10 XT + verwendet hochauflösende Bildgebungstechnologie, die eine hohe Bildqualität und scharfen Fokus für die Erkennung von winzigen Defekten auf Oberflächen bietet. Es verfügt über eine automatisierte Metrologie-Einheit, die eine Vielzahl von Mustern und Merkmalen messen und analysieren kann. Die softwaregesteuerte 5-Achsen-Linearmotorstufe der Maschine ermöglicht eine schnelle und präzise Manipulation von Masken und Wafern. Das Werkzeug ist mit einem interferometrischen Laserscanner ausgestattet, der bis zu 10 Milliarden Messpunkte pro Wafer bereitstellt. Es verfügt auch über einen laserbeleuchteten Ultraschaltraum-Inspektionskopf mit einem beleuchteten Mikroskopbereich, der für hochauflösendes Scannen verwendet werden kann, um kritische Fehler zu erkennen. KLA Archer 10 XT + verwendet leistungsstarke Bilderkennungstechnologie, um Fehler zu identifizieren. Seine Imaging Analysis Processing Asset (IAPS) kann automatisch Daten mit Fehlerstatus ausgeben und kann minutiöse Partikel, Kratzer und minutiöse Partikel aus Prozesskontamination erkennen. Darüber hinaus bietet die Ferndiagnosefunktion des Modells Fernzugriff zur Auswertung von Fehlerinformationen, Fehlerdiagnose und Statusüberwachung des Gerätebetriebs. Schließlich bietet TENCOR Archer 10 XT + eine schnelle Kalibrierbarkeit, die genaue und quantifizierbare Ergebnisse bei minimalen Ausfallzeiten ermöglicht. Seine hochgenaue, automatisierte Kalibrierausrüstung kann die Ausrichtung der Optik und des mechanischen Bühnensystems messen, um höchste Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Das Gerät ist in der Lage, eine robuste Inspektionslösung für eine Vielzahl von Anwendungen bereitzustellen. Es kann für die anspruchsvollsten eingebetteten Fehlerinspektionsbedarf, einschließlich Mikron-Level-Defekte und Muster-basierte Inspektion, sowie Ätz- und Widerstand verwandte Mängel überprüfen. Seine High-End-Technologie und Funktionen können eine schnelle und genaue Erkennung von Defekten sowie eine höhere Prozessstabilität und höhere Erträge gewährleisten.
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