Gebraucht KLA / TENCOR Archer 10 #9104743 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9104743
Wafergröße: 12", 8"
Weinlese: 2002
Overlay inspection system, 12", 8",
Software version: 3.10.06.SP7
OS: WINDOW NT 4.0 B1381
License:
ANRA
CPM
GEM
Imageless
LIED
XY Separation
E87
E40E90E94
Handler:
Dual FIMS
Brooks robot
Pre-Aligner
Controller / Asyst loadport
2002 vintage.
KLA/TENCOR Archer 10 ist eine fortschrittliche optische Bildgebungsausrüstung für die Masken- und Waferinspektion. Es ist ideal für Halbleiteranwendungen wie die Rasterelektronenmikroskopie kritischer Dimensionen (CD-SEM) und kann die kritischen Merkmale integrierter Schaltungen (ICs) mit hoher Genauigkeit messen. Der Kern von KLA Archer 10 ist ein einzigartiges optisches Lithographiesystem, das Laser-, Kontakt- und Elektronenstrahlbildgebung mit einer durchdringenden automatischen Mustererkennung (APR) kombiniert. Damit erreicht TENCOR ARCHER10 eine beispiellose Genauigkeit und Durchsatz bei der Messung äußerst komplexer Muster. Es kann Geräte bis zu 0,1 Mikrometer genau messen und Muster mit einer Vielzahl verschiedener Formen, Größen und Funktionen automatisch identifizieren. TENCOR Archer 10 verfügt auch über eine hochauflösende CMOS-Bildverarbeitungsmaschine zur Aufnahme von bis zu 8K-Auflösungsbildern von Wafern und Masken. Dieses Tool ermöglicht eine extrem hochauflösende Ansicht des Substrats und der Defekte, wodurch der Benutzer Probleme identifizieren und beheben kann, bevor er in den Produktionsprozess eintritt. Darüber hinaus ermöglicht die integrierte optische Fehleranalyse (OFA) eine Echtzeit-Erkennung und Bewertung von Waferdefekten beim Durchlaufen des Modells. Schließlich verfügt ARCHER10 auch über eine leistungsstarke Datenerfassungsausrüstung, mit der bis zu vier unabhängige Bildquellen gesammelt und synchronisiert werden können. Dieses System ist sehr effizient, so dass es möglich ist, eingehende Untersuchungen eines einzelnen IC durchzuführen, wie IC-Fehleranalyse oder IC-Performance-Tuning. Insgesamt ist KLA ARCHER10 eine leistungsstarke und fortschrittliche Einheit, die eine zuverlässige, genaue und schnelle Inspektion von Masken und Wafern ermöglicht. Seine Kombination aus On-Board-Funktionen, hochempfindlichen und fortschrittlichen Bildsensoren und seine Echtzeit-Mustererkennungsfunktionen machen es zu einer führenden Maschine in der Halbleiterinspektion.
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