Gebraucht KLA / TENCOR Archer 10 #9205450 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9205450
Overlay inspection system, 8"
Does not have KLASS computer
Halogen light source:
Halogen lamp (HLS)
P/N: 127-483105-000 (X)
PDA Gain: X, Y Axis
Wafer surface focus and analysis patened
LINNIK Camera uniformity
AMS Camera uniformity
GEM/SECS
Fringes:
ON to OFF mean time
OFF to ON mean time
Line conditioner: 60 Hz
Power: 208/230 V, 3 Phase/1 Phase 50/60 Hz
Noise test:
AMS Camera noise level: 0.68 GL
Light map: 30 Min
50 BP (LINNIK)
12K BP (AMS 12K µm FOV)
PDA:
PDA Gain: 2527 GL
PDA X Axis centering current signal: 653
PDA Y Axis centering current signal: 648
System:
Check shutter response time
Fringes ON to OFF mean time: 65.3 msec 20<x<80
Fringes OFF to ON mean time: 44.5 msec 20<y<80
Check translation vector:
Co-ordinate:
x: 1848.9 µm
Y: 61496.6 µm
Z: 707.2 µm
2004 vintage.
KLA/TENCOR Archer 10 ist eine führende Masken- und Waferinspektionsanlage, die zur Erkennung und Messung von Defekten auf Photomasken, Wafern und anderen plattformagnostischen Substraten verwendet wird. Das System ist mit fortschrittlicher emissiver bildgebender Lumineszenz (EIL) -Technologie geladen und verwendet Hellfeld- und Dunkelfeldbilder, um Fehler mit hoher Auflösung zu erkennen und zu analysieren. Es bietet eine schnelle, hochgenaue und automatisierte Fehlerüberprüfung und bietet Anwendern einen beispiellosen Durchsatz und Leistung. Die Einheit KLA Archer 10 ist für eine Vielzahl von Anwendungen und Prozessen konzipiert und arbeitet sowohl mit ebenen als auch mit gekrümmten Oberflächen. Es kann Defekte erkennen, die durch Lithographie, Ätzen, Abscheidung, Abscheidung Musterung und dielektrische Schäden verursacht werden. Dies führt zu einer schnelleren und genaueren Fehlererkennung und -klassifizierung, wodurch Kunden ihre fehlerbedingten Kosten reduzieren können. Die Kombination aus hochauflösender Bildgebung, automatisierter Fehlerüberprüfung und umfassender Fehlerdokumentation macht TENCOR ARCHER10 zu einem leistungsstarken Werkzeug für anspruchsvollste Industrieumgebungen. Es kann problemlos mit anderen Geräten wie Fehlersteuerungs-Softwarelösungen zur genauen Echtzeit-Datenanalyse integriert werden. TENCOR Archer 10 Maschine ist in der Lage, schnell und genau Fehler durch Hellfeld und Dunkelfeld Bildgebung zu identifizieren. Dies ermöglicht zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse und schnelle Fehleranalysen. Seine fortschrittliche Multi-Die-Imaging sorgt für Genauigkeit und Geschwindigkeit. Die benutzerfreundliche Software des Tools macht es einfach zu bedienen, und seine erweiterten Funktionen sorgen für maximale Genauigkeit. Die Automatisierungssuite von ARCHER10 bietet eine einfache Einrichtung und flexible Datenanalyse. Der integrierte 3D-Musterscanner und die Inspektionsmaschine ermöglichen die Verarbeitung von Wafern und Substraten mit hohem Durchsatz. Die KLA- ARCHER10 liefert zudem erstaunlich detaillierte Fehlerbilder. Seine Software kann Fehler im Detail analysieren und anzeigen, sodass Benutzer ein- und auszoomen können, um Fehlergrößen und -formen auszuwerten. Es hat auch ein filterbasiertes Fehlererkennungswerkzeug, das falsche Fehler herausfiltern kann, so dass Benutzer sicher sein können, dass sie genaue Ergebnisse sehen. Darüber hinaus bietet der Vermögenswert eine umfassende Mängelkontrolle. Funktionen wie Fehlerberichterstattung und Fehleranalyse sowie Echtzeit-SPC ermöglichen es Benutzern, Fehlertrends schnell zu erkennen, zu klassifizieren und zu überwachen. Insgesamt ist Archer 10 von UCK ein fortschrittliches, Hochgeschwindigkeits-Masken- und Wafer-Inspektionsmodell. Mit intuitiver Software, Multi-Die-Imaging, automatisierter Fehlerüberprüfung und umfassender Fehlerkontrolle bietet KLA/TENCOR ARCHER10 einen beispiellosen Durchsatz und Leistung für industrielle Umgebungen.
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