Gebraucht KLA / TENCOR Archer 100 #9221534 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 100 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um die Qualität von Halbleitern zu gewährleisten. Dieses System verwendet fortschrittliche Messtechnik, um Defekte an Masken und Wafern mit hoher Präzision bis zu einer Auflösung von 0,05 µm über das gesamte Sichtfeld mit einer Geschwindigkeit von bis zu 24 linearen Sichtfeld (LFOV) pro Sekunde zu erkennen. Das Gerät nutzt eine einzigartige Kombination von zwei Technologien zur Visualisierung und Analyse der Oberfläche eines Wafers: patentierte hyperspektrale Bildgebung und spektrale Beugung Bildgebung. Die spektrale Beugungsabbildung ermöglicht die Detektion kristalliner Defekte bei einer Auflösung von 0,05 µm, da sie Unterschiede in Elektronenbeugungsmustern ausnutzt, die selektiv von verschiedenen Kristallstrukturen absorbiert werden. Hyperspektrale Bildgebung hingegen nutzt sichtbares Licht, um Defekte zu erkennen und zu charakterisieren. Die Kombination von bildgebenden Techniken führt zu einer erhöhten Effektivität bei der Fehlererkennung, die Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Fehlercharakterisierung bietet. Das Design des KLA Archer 100 ist für maximale Effizienz und Flexibilität optimiert, mit fortschrittlichen Funktionen wie einer kontrastreichen LED-Beleuchtungsstation und intuitiver Software. Die LED-basierte Beleuchtungsstation maximiert die Gleichmäßigkeit der Beleuchtung über das gesamte Sichtfeld des Mikroskops und bietet einen größeren Kontrast zu Merkmalen, die in herkömmlichen Mikroskopen nicht sichtbar sind. Darüber hinaus macht die intuitive Softwareplattform KLA die Maschine sehr benutzerfreundlich und kann an verschiedene Anwendungen angepasst werden, einschließlich Wafer Edge Mapping, Defect Assignment, Particle Count Analysis und Bokeh Analysis. Das Werkzeug hat auch eine breite Palette von Zubehör und Optionen zur Verfügung, um seine Usability-Palette weiter auszubauen. Diese Optionen umfassen eine ganze Reihe von hochauflösenden Objektiven und Beleuchtungslösungen, ein umfangreiches Filterangebot, eine Inline-Referenzmarkierung und ein automatisiertes Ausrichtwerkzeug. Insgesamt ist TENCOR Archer 100 ein ausgezeichnetes Werkzeug für eine effektive Masken- und Waferinspektion und bietet hohe Geschwindigkeit und Genauigkeit sowohl für Forschungslabore als auch für Produktionslinien. Die Kombination fortschrittlicher Bildgebungs- und Analysetechnologien sowie die innovativen Designmerkmale machen es zu einer herausragenden Wahl für die Qualitätssicherung von Halbleiterscheiben.