Gebraucht KLA / TENCOR Archer 200 AIM #293614970 zu verkaufen

ID: 293614970
Weinlese: 2009
Overlay inspection system 2009 vintage.
KLA/TENCOR Archer 200 AIM ist eine hochmoderne Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Das System wird verwendet, um die Qualität zu analysieren und die ordnungsgemäße Leistung von Wafern und Masken während des Herstellungsprozesses zu gewährleisten. Das Gerät basiert auf den patentierten Sensing Technologies des Unternehmens, die einen flexiblen, schnellen und einfachen Inspektionsprozess ermöglichen. Es verwendet einen GraniteTM AI-basierten Maskeninspektor, um Muster, Defekte und Variationen in den Mustern auf der Maske zu erkennen. Die Maschine enthält auch eine integrierte Reticle Inspection Platform (RIP), die Musteranomalien und andere Nichtkonformitäten auf Photomasken erkennen kann, die bei der Herstellung von integrierten Schaltungschips verwendet werden. KLA Archer 200 AIM ist auch mit ILT HD Motoren-Technologie ausgestattet, um hochpräzise Oberflächenebenheit und Steigungsmessungen durchzuführen. Diese Technologie verwendet einen einzigartigen Bildkorrelationsalgorithmus, der die Tonhöhenvariation bei einer Genauigkeitsstufe von 0,1 Mikron erkennen kann. Darüber hinaus umfasst das Tool auch die KLA advanced Automated Defect Review (ADR) Technologie. Diese Technologie hilft Technikern, kleine Mängel, die mit herkömmlichen bildgebenden Systemen schwer zu erkennen sind, schnell und genau zu erkennen. TENCOR Archer 200 AIM wurde mit Blick auf eine einfache Bedienung entworfen, die auf einer Reihe benutzerfreundlicher Steueroberflächen und einem automatisierten Setup basiert. Es rationalisiert Setup und Betrieb, indem es manuelle Eingriffe entfernt und die allgemeine Trainingszeit reduziert. Darüber hinaus ermöglichen die flexiblen Automatisierungsfunktionen des Asset es verschiedenen Betreibern, Inspektionsparameter einfach anzupassen und höhere Durchsätze und Genauigkeiten zu erzielen. Archer 200 AIM wurde entworfen, um die heute strengsten Anforderungen an die Fehlerinspektion zu erfüllen und bietet höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit. Es kann Verunreinigungen, schlechte Liniendicke, schlechte Auflösung und zahlreiche andere Arten von Defekten mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit, Reproduzierbarkeit und Zuverlässigkeit genau erkennen. Damit ist KLA/TENCOR Archer 200 AIM weltweit eine führende Wahl für die Wafer- und Maskeninspektion in der Halbleiterindustrie.
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