Gebraucht KLA / TENCOR Archer 200 AIM #9176636 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 200 AIM Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung ist ein Präzisions-Lithographie-Werkzeug verwendet, um Fehler in 200mm hergestellten Halbleiterprodukten zu erkennen. Dieses Tool verwendet Hellfeld-Bildgebung, Dunkelfeld-Bildgebung und Streulicht-Bildgebung, um Variationen in der optischen Durchlässigkeit und Reflektivität von gemusterten Merkmalen genau zu erkennen. Das System ist in der Lage, hochauflösende Bilder jeder Funktion zu erfassen, um Fehler wie Muster oder Open/Shorts zu analysieren. Dies ermöglicht eine vollständige Inspektion von Lithomustern und trägt dazu bei, dass hochwertige Endprodukte hergestellt werden. Die Einheit KLA Archer 200 AIM verfügt über zwei automatisierte Subsysteme: das Teilsystem Automated Mask Inspection (AMI) und das Teilsystem Automated Wafer Inspection (AWI). Diese beiden Systeme arbeiten zusammen, um einen vollständigen Überblick über den Lithographieprozess zu geben. Das AMI analysiert die Muster und eventuelle Defekte an der Photomaske, bevor der Wafer belichtet wird. Dadurch können mögliche Probleme, die während des Lithographieprozesses auftreten könnten, frühzeitig erkannt werden. Das AWI inspiziert den gemusterten Wafer, nachdem er freigelegt und entwickelt wurde. Dies ermöglicht eine genauere Überprüfung der Muster sowie die Messung eventueller Abweichungen zwischen dem erwarteten Muster und den tatsächlichen Ergebnissen. TENCOR Archer 200 AIM Maschine bietet eine Reihe von Vorteilen, die helfen, die Kosten der Halbleiterproduktion zu reduzieren. Zunächst kann das Werkzeug Masken und Wafer in einem Durchgang inspizieren, was einen schnelleren Produktionsdurchsatz ermöglicht. Zweitens bietet das Asset halbautomatische Fehlerüberprüfung, so dass es nicht notwendig ist, jeden Fehler manuell zu überprüfen und zu identifizieren. Darüber hinaus bietet das Modell eine Vielzahl von Bildgebungs- und Analysefunktionen, einschließlich der Fähigkeit, Musterprofile und Linienbreiten zu messen, sowie die Fähigkeit, Risse und andere Fehler zu erkennen. Schließlich hat das Gerät die Fähigkeit, Wafer mit bis zu 140 Wafern pro Stunde zu inspizieren. Abschließend ist Archer 200 AIM mask & wafer inspection system ein leistungsfähiges Werkzeug zur Erkennung und Analyse von Defekten in Lithographieprozessen. Dieses Gerät bietet überlegene bildgebende Funktionen und eine Vielzahl nützlicher automatisierter Analysefunktionen. Darüber hinaus ermöglicht sein hoher Durchsatz eine schnellere Produktion und reduzierte Kosten und ist damit eine ideale Wahl für die 200mm Halbleiterproduktion.