Gebraucht KLA / TENCOR Archer 200 #293800299 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 200 ist ein Werkzeug zur Inspektion von Wafern und Masken der nächsten Generation, das die Advanced Metrology-Inspektion der Halbleiterherstellung ermöglicht. Es wird mit einer scannenden „Eigentumselektronoptik“ und“ „Eigentumsvollfeldfotomaskenanordnungstechnologien ausgestattet, um unvergleichliche Bildaufbereitungsfähigkeiten für die kritische Prozesssteuerung und Ertragoptimierung zu bieten. KLA Bogenschütze 200 Ausrüstung verwendet eine Kombination der Submikronbeschlusskontrastbildaufbereitung des Elektrons/Ions/Optik und fortgeschrittenen Metrologie, um Oblate und Maske Defekte aus der Spezifikation wie Partikelnverunreinigung, Steindruckverfahrenfehler und Fotomaskenanordnungsfehler zu untersuchen. Es wurde entwickelt, um Hochdurchsatz, hochauflösende Bildgebung und Inspektion von Masken- und Waferdefekten zu ermöglichen. Die Elektronen/Ionen-Optik des Systems ermöglicht eine präzise Abbildung von Defekten außerhalb der Spezifikation mit hohen Vergrößerungen bis zu 70.000x. Diese bildgebende Auflösung ist wesentlich für präzise Partikelverunreinigungen und Partikeldefektanalysen (PCD/PDCA) sowie für Prozesskontrollen und vertikale Hot-Spot-Analysen. Erweiterte Metrologie-Funktionen, die in TENCOR Archer 200 integriert sind, inspizieren gemusterte und nicht gemusterte Funktionen sowohl auf Photomasken als auch auf Wafern. Es kann Fehler in der Größenordnung von 0,01 µm bis 0,1 µm erkennen, einschließlich solcher, die zu klein sind, um mit herkömmlichen optischen Technologien erkannt zu werden. Für die Fotomaskeninspektion schließt Archer 200 die fortgeschrittensten Vollfeldfotomaskenanordnungstechniken der Industrie ein. Diese patentierte Technologie gewährleistet eine präzise Ausrichtungsmessung über das gesamte Sichtfeld und beseitigt Fehler durch Stich-/Positionierungsfehler. Die Einheit ist auch in der Lage, gleichzeitig Durchsatz und Düsen-zu-Düsen-Inspektion, Reduzierung der Zykluszeit und eine höhere Ausbeute. Insgesamt ist KLA/TENCOR Archer 200 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, die entwickelt wurde, um die strengsten Industriestandards und Ertragsanforderungen zu erfüllen. Seine branchenführenden Funktionen und erweiterten Scanfunktionen bieten eine unübertroffene Bildauflösung und Ertragsoptimierungsfunktionen, die insbesondere für erweiterte Prozesskontroll- und Lithographieanwendungen von entscheidender Bedeutung sind.