Gebraucht KLA / TENCOR Archer 300 #293760734 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 300 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine präzise Analyse der Lithographie-Prozessleistung auf fortschrittlichen Halbleiterbauelementen ermöglicht. Dieses System bietet umfassende 2D- oder 3D-Bildgebungsfunktionen sowie verbesserte Bildgebungsfunktionen zur Erkennung von Kantenplatzierungsvariationen, Unterauflösungsfunktionen und kritischen Material-Film-Interaktionen. KLA Archer 300 ist eine Hardware-Plattform, die Hochgeschwindigkeits-Lasermusterbilder, automatisierte optische Inspektion, Maskeninspektion und Filminspektion zur Analyse integrierter Schaltkreise integrieren kann. TENCOR Archer 300 verwendet AccuMetrix™ und MultiRes™ Technologie, die fortschrittliche Kante bietet und Technologie verifiziert, die hochauflösende Bilder mit AccuMetric Musteranpassungssoftware kombiniert, um Fehler in komplexen Mustern mit Leichtigkeit zu erkennen. Mit seiner verbesserten Fokustiefe und patentierten Bildgebungstechniken ist Archer 300 in der Lage, Fehler genauer und schneller zu erkennen und zu identifizieren als herkömmliche Visualisierungssysteme. Diese hochmoderne Maschine verfügt über verbesserte Funktionen zur Messung kritischer Abmessungen und eine optimierte Prozesssteuerung für eine überlegene Ausbeute. KLA/TENCOR Archer 300 hat die Kapazität für 3D-Bilder mit Pixelauflösungen bis zu 20 nm und Höhenauflösung bis zu 10 nm und einen verbesserten Probendurchsatz mit bis zu 178 an einem Tag gescannten Wafern. Der KLA Archer 300 bietet zudem die Möglichkeit, bis zu 128 Wafer gleichzeitig zu unterstützen und einen schnellen Datendurchsatz zu gewährleisten. TENCOR Archer 300 ist auch mit fortschrittlichen Kartierungs- und Folieninspektionstechnologien ausgestattet, einschließlich MultiColor™ Technologie, um mehr als ein wesentliches messtechnisches Merkmal gleichzeitig zu überprüfen. Es enthält auch Absolute Overlay™ Tools, die die Überlagerungsleistung messen und die Konsistenz der Überlagerungsleistung zwischen mehreren Ebenen demonstrieren. Darüber hinaus verfügt das Tool über eine integrierte Mikromasken-Inspektionsfähigkeit, die eine automatische Analyse der Maskenfunktionen ermöglicht, um Fehler oder Mängel zu beseitigen. Das fortschrittliche Asset-Design von Archer 300 umfasst auch ein leistungsfähiges Softwarepaket zur Datenerfassung, -analyse und -kommunikation mit Berichtsfunktionen, mit dem Benutzer Prozessparameter steuern, analysieren und validieren können. Die umfassenden Analyse-, Berichts- und Messaging-Funktionen geben Benutzern das Vertrauen, proaktiv einzugreifen, um die Prozessleistung zu verbessern. KLA/TENCOR Archer 300 ist ein fortschrittliches, zuverlässiges Hochleistungsmodell, das Genauigkeit, Durchsatz und Datenanalyse maximiert, um Anwendern zu helfen, ihre Lithographie-Prozesskontrollziele zu erreichen. Diese erstklassige Masken- und Wafer-Inspektionslösung ermöglicht es Anwendern, maximale Prozessstabilität und Geräteherstellungsausbeute zu erzielen.