Gebraucht KLA / TENCOR Archer 300 #293800548 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 300 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um die Qualitätskontrolle von Photomaske, Wafer und Reticle zu optimieren. Es ist mit der neuesten bildgebenden Technologie ausgestattet und bietet eine vollständige optische Inspektion, um Fehler an Photomasken, Lithographiewafern und Retikeln mit hoher Genauigkeit, Geschwindigkeit und Wiederholbarkeit zu identifizieren und zu analysieren. Das System ermöglicht eine schnelle und genaue Indizierung und Inspektion der gesamten Photomaske oder des Wafers ohne Kontakt - und ermöglicht eine sofortige Rückmeldung, um Fehler zu erkennen und zu analysieren. Darüber hinaus können Anwender die Inspektionseinstellungen anpassen, um die Genauigkeit und Geschwindigkeit des Inspektionsprozesses noch weiter zu optimieren. KLA Archer 300 verfügt über einen 4-Megapixel-Bildsensor und eine hochpräzise XY-Neigungsstufe, die hochauflösende Bilder bereitstellt, die Fehler, einschließlich kleiner Partikel, dünner Reste und anderer Anomalien, die normalerweise unter 10 Nanometer gefunden werden, genau identifizieren. Das Gerät kann die gesamte Maske oder den Wafer in Echtzeit überprüfen und dabei Informationen erfassen, die den größtmöglichen Bereich abdecken. Darüber hinaus ermöglicht der TENCOR Archer 300 Benutzern die Festlegung von Schwellenwerten für bestimmte Arten von Fehlern, die auf nachfolgende Neuinspektionen angewendet werden können. Die Maschine bietet zudem eine automatisierte regelbasierte Reparatur der Wafer-Lithographie über intelligente Fehlererkennung. Der Reparaturvorgang wird in wenigen Minuten statt in Stunden abgeschlossen, was zu einem erhöhten Produktionsdurchsatz und einer verbesserten Ausbeute führt. Mit Archer 300 können Anwender einfach Ergebnisse überprüfen, einschließlich einer Fehlerliste, Maskendruckbilder, Funktionsmaße und andere Messdaten für eine genaue Analyse und Bewertung. Insgesamt ist KLA/TENCOR Archer 300 ein ideales Werkzeug zur Inspektion und Messung von Photomasken und Wafern und liefert genaue, wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse für eine optimale Qualitätskontrolle.