Gebraucht KLA / TENCOR Archer 300 #293821842 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 300 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um eine automatisierte optische Präzisionsprüfung mit hohem Durchsatz für kritische Kontrollpunkte (CCPs) in fortgeschrittenen Halbleiterherstellungsprozessen bereitzustellen. KLA Archer 300 ist ein modulares System, das zur hochauflösenden, automatisierten Erkennung von Fehlern in Photomasken, Retikeln und IC-Wafern entwickelt wurde. Es kombiniert fortschrittliche Optik- und Bildgebungssysteme mit ausgeklügelten Software-Algorithmen, um Fehler zu identifizieren und zu melden. Der Kern der Einheit ist ein proprietäres „Surfscan“ -Profil und eine Defektmesstechnik, die zwei verschiedene Bildgebungskanäle verwendet, um eine vollständige Palette von topographischen Merkmalen auf jeder Maske und jedem Wafer zu erfassen. Die Maschine kann Defekte mit einer Größe von bis zu 0,2 Mikrometern erkennen, die Bedienungspersonen benachrichtigen und ihnen ermöglichen, sofort Korrekturmaßnahmen zu ergreifen, um kostspielige Prozessströme zu vermeiden. TENCOR Archer 300 beinhaltet auch Fehlerklassifizierungsmöglichkeiten und eine Bibliothek vorprogrammierter Profilierungsalgorithmen für eine schnelle und genaue Fehleranalyse. Auf diese Weise können Ingenieure große Datenmengen schnell analysieren und mögliche Probleme oder Probleme bei der Prozesssteuerung erkennen. Archer 300 unterstützt auch die automatische Überprüfung von Fehlern, die durch das Tool hervorgehoben werden, und die detaillierte Analyse mithilfe fortgeschrittener Bildanalysetechniken. Neben der Fehlererkennung bietet KLA/TENCOR Archer 300 erweiterte Möglichkeiten zur Maskendesign-Überprüfung, einschließlich einer regelbasierten Designvalidierung und einer Audit-Qualitätssicherungsplattform. Die Software von KLA Archer 300 erleichtert auch die automatische Ausrichtung von Sonden und Streben und erleichtert die Kommunikation zwischen dem SEM und seiner Datenbank. Insgesamt ist TENCOR Archer 300 ein robustes und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das entwickelt wurde, um eine automatisierte optische Inspektion mit hohem Durchsatz und Präzision für kritische Kontrollpunkte in fortgeschrittenen Halbleiterherstellungsprozessen bereitzustellen. Es kombiniert fortschrittliche Optik- und Bildgebungssysteme mit ausgefeilten Software-Algorithmen und automatisierten Überprüfungsfunktionen, um eine umfassende Lösung für die Fehlererkennung und -analyse zu bieten.