Gebraucht KLA / TENCOR Archer 300 #9287998 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 300 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine überlegene automatisierte Ertrags- und Leistungsanalyse ermöglicht. KLA Archer 300 verwendet fortschrittliche Bilderkennungsalgorithmen, um Fehler in Masken- und Wafermustern zu erkennen, zu analysieren und zu klassifizieren, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Das System ist in der Lage, sowohl topographische als auch parametrische Anomalien an über 13 Millionen Standorten pro Stunde zu erkennen. Diese Stellen werden gescannt, um Abweichungen zwischen Masken- und Wafermuster zu erkennen und genau zu korrigieren. Es kann auch eine erweiterte Analyse verschiedener Fehlertypen durchführen, wie z. B. schmale oder Überbrückungsfehler. TENCOR Archer 300 wird entwickelt, um die höchsten Standards der Genauigkeit und Leistung zu übertreffen. Durch die Nutzung der neuesten bildgebenden Technologie ist das Gerät in der Lage, Fehler bis auf Mikroniveau zu erkennen und zu analysieren. Seine fortgeschrittenen Mustererkennungsalgorithmen sind in der Lage, die kleinsten Abweichungen vom idealen Muster zu erkennen, was zu schnelleren Ergebniszeiten und höheren Ertragsraten führt. Darüber hinaus ermöglicht die intuitive Software KLA eine nahtlose Anpassung von Testparametern und Ergebnisdarstellungen. Über eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche können Benutzer schnell die Parameter ihres Tests definieren und anpassbares Reporting erstellen. So können Anwender Fehler und Schichtungen schneller als je zuvor analysieren und melden. Archer 300 ist besonders nützlich für bahnbrechende Technologieknoten der nächsten Generation. Es ist in der Lage, die komplexesten und dicht gepackten Wafer-Muster zu überwachen und zu analysieren, was eine genaue Erkennung von Minutenfehlern im Zusammenhang mit Multimuster-Designs ermöglicht. Die Maschine ist auch in der Lage, die Auswirkungen der Prozessvariation und ihre Auswirkungen auf die Masken- und Waferleistung im Laufe der Zeit zu überwachen. KLA/TENCOR Archer 300 ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug zur Überwachung und Analyse von Masken- und Waferdefekten während der Halbleiterherstellung. Es bietet beispiellose Genauigkeit und Kontrolle, die eine genauere Analyse mit schnelleren Durchlaufzeiten ermöglicht. Durch den Einsatz der neuesten Bildgebungs- und Mustererkennungstechnologien hilft KLA Archer 300 Anwendern, eine höhere Ertragsrate aufrechtzuerhalten und gleichzeitig Zeit und Kosten im Zusammenhang mit Test und Analyse zu reduzieren.