Gebraucht KLA / TENCOR Archer 300 #9301024 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer 300 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine hochpräzise Überwachung und Fehlererkennung auf Halbleiterbauelementen ermöglicht. Es ist auf optimale Leistung in Produktionslinien zugeschnitten und bietet hohen Durchsatz und robuste Zuverlässigkeit für die Massenproduktion. Der Kern von KLA Archer 300 ist seine leistungsfähige Bildgebungstechnologie. Das System nutzt fortschrittliche Puls-Zug basierte optische Technologie, um 17 µm Pixel Leistung, die Sub-15 µm Fehlererkennung ermöglicht, so dass es für die anspruchsvollsten Anwendungen geeignet. Die 3600-bildgebende Architektur bietet eine 4X-Erhöhung der Auflösung im Vergleich zu konkurrierenden Systemen. TENCOR Archer 300 verfügt über einen mehrwinkligen optischen Doppelspiegelkopf, der eine höhere Auflösung und bessere Oberflächendeckung als Einzelarray-Systeme bietet. Das Gerät verfügt außerdem über eine einzigartige Funktion mit mehreren Brennweiten, die zur Optimierung der Erkennungssicherheit verwendet wird, indem sie sich automatisch auf die nächsten Funktionen konzentriert. Archer 300 bietet auch hochauflösende Visualisierungsfunktionen. Dazu gehört ein Visualisierungs-Subsystem, das eine genaue Interpretation und Anmerkung von kontrastreichen Fehlern gewährleistet. Die Maschine unterstützt sowohl einen hochleistungsfähigen tragbaren Monitor als auch eine dedizierte interaktive Visualisierungsarbeitsstation. Darüber hinaus unterstützt KLA/TENCOR Archer 300 sowohl standardmäßige als auch automatisierte Wafer-Mapping mithilfe des neuesten KLA-Algorithmus. Dies gewährleistet eine schnelle und effiziente Prozesssteuerung und die Möglichkeit, die Rezepteinstellungen schnell anzupassen. Das Tool unterstützt auch die Offline-Prozessüberwachung und ermöglicht eine kontinuierliche Prozessüberwachung ohne Produktlieferung. KLA Archer 300 ist eine robuste und zuverlässige Produktionslösung, die auf Langlebigkeit ausgelegt ist. Das Asset bietet Redundanz mit einem Dual-Elektroden- und Dual-Stage-Reticle-Modell, das eine schnelle Fehlerwiederherstellung und eine verbesserte Verfügbarkeit und Leistung der Geräte ermöglicht. Das System bietet auch proaktive Überwachung und Wartung für maximale Betriebszeit und Effizienz der Einheit. Abschließend bietet die Masken- und Waferinspektionsmaschine TENCOR Archer 300 eine hervorragende Bildqualität, hochauflösende Bildgebung und präzise Fehlererkennung. Das Tool unterstützt auch automatisierte Wafer-Zuordnung, Offline-Prozessüberwachung und robuste Redundanz. Es ist die perfekte Lösung für hochpräzise Überwachung und Fehlererkennung auf Halbleiterbauelementen.