Gebraucht KLA / TENCOR Archer 300 #9311042 zu verkaufen

ID: 9311042
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2011
Overlay measurement system, 12" Triple FOUP Frontend: (3) Loadports GEM / SECS and HSMS E84 Enabled for OHT and AGV / RGV (3) PIO Devices for OHT E87 Based on E39 E40 / E94 / E90 CMP Measurement option Adaptive noise reduction algorithm Variable illumination spectrum Color filter (3) ADVANTAG Radio Frequency (RF) carrier ID Readers Geometric model finder Log recipe change file S2 and CE Compliant Signal tower Operation manual on CD Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2011 vintage.
KLA/TENCOR Archer 300 ist eine führende Inspektionsausrüstung für die Masken- und Waferindustrie mit einem hochauflösenden Bildgebungssystem und fortschrittlichen Mikroprozessoren. Es wurde entwickelt, um die Anforderungen der heutigen schnelllebigen Halbleiterherstellungsumgebung zu erfüllen und bietet eine zuverlässige Lösung für die Erkennung und Korrektur von Defekten in der Wafer- und Maskenmusterphotolithographie. Das Gerät verwendet Dual-Röntgenkameras und automatisierte Algorithmen, so dass Bediener Musterfehler schnell und genau erkennen und analysieren können. Die Funktion Automatisiertes Auffinden und Charakterisieren (AFaC) der Maschine scannt den geprüften Wafer oder die Maske auf Fehler und übermittelt dann die resultierenden Bilder an den Benutzer. Das Tool verfügt zudem über eine intuitive Benutzeroberfläche für optimale Benutzerfreundlichkeit. Das Asset unterstützt mehrere Wafer- und Maskengrößen und kann eine Vielzahl von Fehlern erkennen. Es kann Wafer bis zu 8 Zoll oder 20 cm Durchmesser und Masken bis zu 1,2 m Größe inspizieren. Das Modell verwendet fortschrittliche 4K-Bildgebung und automatisierte Inspektionsalgorithmen, um eine schnellere Erkennung und Analyse von Fehlern zu ermöglichen. Um eine optimale Leistung zu gewährleisten, ist die Ausrüstung sehr robust und zuverlässig ausgelegt. Es hat einen modularen Aufbau, der eine einfache Installation, Wartung und Fehlerbehebung ermöglicht. Es verfügt über robuste Diagnosefunktionen und fortschrittliche thermische Kompensationstechniken, um eine hervorragend stabile Prüfung und Messung von Defekten zu gewährleisten. Darüber hinaus kann der Benutzer die Prüfparameter anpassen, um eine optimale Leistung für seine Anwendung zu gewährleisten. KLA Archer 300 ist ideal für die Inspektion von Masken- und Wafer-Muster-Photolithographie über verschiedene Schichten und Prozesse. Es ist ein zuverlässiges Werkzeug, um die Produktionsqualität sicherzustellen, die den Kundenanforderungen effizient und kostengünstig entspricht. Mit seiner branchenführenden Leistung, Zuverlässigkeit und Eigenschaften ist dieses System eine gute Wahl für Halbleiterhersteller.
Es liegen noch keine Bewertungen vor