Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM MPX #9383055 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer AIM MPX ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine automatisierte produktionsfertige Inspektion sowohl kritischer als auch unkritischer Merkmale auf Photomasken und Wafern ermöglicht. Dieses System beinhaltet fortschrittliche Technologien wie die Optimode-Fähigkeit, einen patentierten 4-Dimensional (4D) Laser-Scatterometry-Workflow und mehrere Mustererkennungstechniken, um sicherzustellen, dass alle Fehler zuverlässig identifiziert und zuverlässig gemessen werden. Die Optimode-Fähigkeit stellt sicher, dass alle Merkmale der zu inspizierenden Maske oder des Wafers genau identifiziert und gemessen werden. Es funktioniert durch die Steuerung der Laser-Spot-Größe und die Anzahl der angeforderten Scans. Die Laserstreuung misst die Komplexität von Werkzeugformen und 3D-Merkmalen und ermöglicht die Messung kontrastreicher Merkmale auf ebenen und komplexen Oberflächen ohne menschliche Interaktion. Neben der Optimode-Technologie ist KLA Archer AIM MPX mit mehreren Mustererkennungstechniken ausgestattet, um genaue Inspektionsergebnisse zu gewährleisten. Dazu gehören eine dynamische Fehlererkennung, eine automatische Schwellenauswahl und eine automatisch konfigurierbare Feature-Template-Bibliothek. Darüber hinaus bietet diese Einheit Inspektionsberichte in verschiedenen Formaten, wie JPEG, TIFF und PDF, mit bis zu 500facher Vergrößerung. TENCOR Archer AIM MPX Maschine unterstützt eine Vielzahl von Wachstums- und Overlay-Prozesse wie High Volume Manufacturing (HVM), so dass das Werkzeug Funktionen bis zu einer Auflösung von 0,1 Mikron genau messen. Darüber hinaus arbeitet diese Ressource in einer vollständig dunklen Umgebung und behält ein konsistentes thermisches Profil bei, das ultrahochpräzise Messungen ermöglicht. Darüber hinaus bietet Archer AIM MPX auch eine breite Palette von Inspektionsmodi, einschließlich Review, Spot, Vergleich, Overlay und Low-K. Der Überprüfungsmodus bietet eine visualisierbare Darstellung der Maske oder des Wafers, während der Vergleichsmodus Masken nebeneinander vergleicht, um Nichtkonformitäten auszuwerten. Der Overlay-Modus richtet mehrere Masken für eine schnelle Inspektion aus, während der Low-K-Modus in der Lage ist, die Höhe und die Dünnfilmlinien der Funktionen zu messen. Insgesamt ist KLA/TENCOR Archer AIM MPX ein zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das eine optimale Kombination von Funktionen bietet, die eine schnelle und genaue Fehlererkennung ermöglicht, mögliche Ertragsverluste identifiziert und die Fertigungsgenauigkeit verbessert. Mit seinen leistungsstarken Funktionen wird die Inspektionszeit reduziert und die Produktivität erhöht.