Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM+ #293603929 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer AIM + ist eine marktführende Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die Halbleiterherstellern hilft, Prozesserträge zu verbessern und Kosten zu senken. Es erkennt präzise selbst die kleinsten Defekte über eine breite Palette von Masken- und Wafer-Testtypen und ermöglicht Prozessingenieuren, schnell auf nachgebende Defekte zu reagieren. Das System kombiniert innovative optische und bildgebende Algorithmen mit fortschrittlicher physikalischer Mustererkennung. Die Kamera auf KLA Archer AIM + ist ein Dual-Axis Selective-Area Monitor, der Daten sowohl aus Wafer- als auch aus Maskenkomponenten exakt erfasst. Es ist in der Lage, Bilder von bis zu 4.000 x 4.000 Pixel mit Submikron-Auflösung und Genauigkeit zu erfassen. Um die Bildaufnahme weiter zu verbessern, verfügt das Gerät über eine intelligente Parameteroptimierungsmaschine, die die Optik für optimale Ergebnisse innerhalb einer kürzeren Zykluszeit anpasst. TENCOR Archer AIM + nutzt fortschrittliche Mustererkennungstechnologie, die Variablen wie Makelform, Größe und Abstand berücksichtigt, um Fehler zu charakterisieren. Es verwendet auch physikbasierte Simulatoren, um optische Parameter, die Muster Inspektion beeinflussen genau zu messen. Solche Parameter umfassen Auflösung, Fokus und Beleuchtung. Darüber hinaus verfügt das Tool über erweiterte Bildfiltertechniken zur verbesserten Fehlererkennung wie Gaußsche Filter, Morphologiefilter und aktive Konturalgorithmen. Archer AIM + ist für Serienprozesse optimiert und bietet eine integrierte Werksüberwachung. Diese Daten können aus der Ferne angepasst und abgerufen werden und bieten eine überlegene Prozesskontrolle über eine größere Palette von Fehlern. Darüber hinaus nutzt das Asset fortschrittliche Fehlererkennungsalgorithmen, um genaue Ergebnisse unter Berücksichtigung von sich im Laufe der Zeit verschiebenden Fehlern zu liefern. KLA/TENCOR Archer AIM + ist weltweit an mehr als hundert Standorten im Einsatz und eignet sich ideal für eine breite Palette von Masken Herstellungsprozesse und Tests, einschließlich, aber nicht beschränkt auf EUV-Masken, optische Fotomasken, Resistbilder und alle Doppelmustermasken. Insgesamt hilft KLA Archer AIM + Halbleiterherstellern, den Ertrag zu verbessern und Kosten zu senken, indem sie eine präzise, detaillierte und durchsatzstarke Fehlererkennung für eine breite Palette von Anforderungen an die Masken- und Waferinspektion bereitstellt.