Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM #9038074 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer AIM ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine hochpräzise automatisierte Fehlererkennung und -charakterisierung ermöglicht. Es bietet überlegene Bilderfassung, bemerkenswert schnellen Durchsatz und leistungsstarke Bildgebungs- und Analysetools. Das KLA Archer AIM-System wurde entwickelt, um sowohl die traditionelle Fotomaskeninspektion als auch kundenspezifische Anwendungen wie die Stempel-zu-Stempel-Fehlerinspektion und die 3D-Fehlererkennung anzusprechen. Die Einheit verwertet eine Hochleistungslinienscanbildaufbereitungsarchitektur, um hochauflösende Bilder für die Defektentdeckung und Defektcharakterisierung zu erwerben. Die Bildverarbeitungsmaschine verfügt über eine Pixelgröße von 22nm und bietet eine echte 450mm-Waferabdeckung. Diese Fähigkeit, auch die größten Wafer mit Präzision zu handhaben, ermöglicht es TENCOR Archer AIM, Fehler mit unglaublich hoher Genauigkeit zu identifizieren. Die Maschine verfügt über eine leistungsstarke, hochmoderne Bilderkennungssoftware zur genauen und robusten automatischen Fehlererkennung und -klassifizierung. Diese Software bietet überlegene Eintakt-Kantenerkennung, Mustererkennung und falsch positive Diskriminierung. Das Tool enthält auch anspruchsvolle Analytics-Motoren für die Prüfung von Wafern mit hohem Durchsatz, die vom Design-Layout bis hin zu amorphen Mustern alles überprüfen können. Archer AIM Asset bietet eine unübertroffene Kombination aus fortschrittlichen Bildgebungs- und Automatisierungswerkzeugen, die es sowohl für traditionelle großvolumige Maskeninspektionen als auch für fortgeschrittene kundenspezifische Anwendungen perfekt machen. Es ermöglicht Anwendern eine schnelle Prozessentwicklung mit automatischer Inspektion und Charakterisierung sowohl normaler als auch anomaler Strukturen. Darüber hinaus bieten erweiterte Software-Tools von KLA umfassende Leistung und Funktionalität der Maskeninspektion, einschließlich des Zugriffs auf umfassende Datenbanken und der Überprüfung von Mustern, Änderungen des Wafer-Layouts, automatisierte Merkmals- und Mustererkennung, falsch positive Reduktion und Batch-Verarbeitung. Das Modell bietet auch die Integration mit fortschrittlichen Mikroskopie-Tools für noch detailliertere Analysefunktionen. Insgesamt ist KLA/TENCOR Archer AIM eine leistungsstarke und vielseitige Masken- und Wafer-Inspektionslösung, die zuverlässige, genaue und zuverlässige Ergebnisse sowohl für traditionelle Maskeninspektionen als auch für fortgeschrittene kundenspezifische Anwendungen bietet.