Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM+ #9176822 zu verkaufen
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ID: 9176822
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2011
Overlay inspection system, 12"
Dual FOUP for DRAM and NAND
Fully automated overlay measurement module:
Coherence probe interference microscope
Automated wafer handling
Software: Windows XP based SW and user Interface
Integrated user interface
LCD Screen, 19"
Floppy drive, 3.5"
CD ROM Drive
Tape drive back up system (DAT)
Video hard copy printer
Network ready:
RJ45 (IOBase-T) BNC
AUI Connector
Tool options:
Triple FOUP
Electrical wiring
Machine power cable: 15 Meters
EMO Shield
Archer 02S & 03 painted skins
Light curtain with safety skirt double FOUP
CMP Measurement (CPM+ANRA)
Signal tower: (4) Lamps 40 mm
GEM/SECS and HSMS
E84 Enabled for OHT & AGV / RGV
(2) PIO Devices for OHT: 3 PIO
E87 (Based on E39)
E40/E94/E90
(3) Thermos single wire CID, G4
RDM Machine client SW & license
AA On-tool client CD & license
Operation manual on CD
2011 vintage.
KLA/TENCOR Archer AIM + ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die den anspruchsvollsten Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Es bietet eine beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei der Inspektion selbst der schwierigsten Photomasken- und Retikelformfaktoren. Mit modernsten Technologien wie computergesteuerter Optik, fortschrittlichen Mustererkennungsalgorithmen und einer voll integrierten Softwareplattform können Fehler und Anomalien in Metall- und Keramikmaterialien zuverlässig erkannt werden. KLA Archer AIM + System verwendet eine fortschrittliche optische Einheit, um kritische Details jeder Maske oder Wafer zu erfassen. Seine optische Maschine umfasst eine große Auswahl an Linsen, die eine schnelle und genaue Erkennung von Defekten und Anomalien auf der Substratoberfläche ermöglicht. Das Tool ist besonders in der Lage, kleinere Funktionen zu erfassen, was die meisten konkurrierenden Systeme nicht tun können. TENCOR Archer AIM + asset verfügt zudem über ein Roboter-Handling-Modell mit automatischem Be- und Entladen von Mustern. Dies gewährleistet die Wiederholbarkeit im Probenbeladungsprozess und sorgt für eine verbesserte Gesamtzykluszeit. Darüber hinaus kann die Ausrüstung die Platzierung und Ausrichtung der Überlagerung genau messen, was sie zu einem idealen Werkzeug für die Beurteilung der mechanischen Integrität der Maske oder des Wafers macht. Um eine genaue Inspektion zu gewährleisten, kombiniert Archer AIM + seine hochmoderne Hardware mit ausgeklügelten Algorithmen zur Mustererkennung und Fehlererkennung. Die Einheit erkennt Muster und Anomalien auf der Masken- oder Waferoberfläche mit einer Auflösung von bis zu 0,1 μ m. Es kann effektiv Partikel, Gruben, Schlieren, Nadelöcher und Risse erkennen - in jedem Winkel oder in jeder Position. Die Maschine bietet auch eine Reihe von Werkzeugen zur Verbesserung der analytischen Fähigkeiten. Dazu gehören Bildverzerrungskorrektur, automatische Fehlerklassifizierung und ein flexibles, auf Metriken basierendes Regelwerkzeug. Zusätzlich ist das Asset mit einer Softwareplattform namens Archer Insight integriert, die es Anwendern ermöglicht, ihre Inspektionsdaten einfach zu verwalten. Das Modell KLA/TENCOR Archer AIM + ist eine ideale Wahl für Halbleiterhersteller, die eine zuverlässige und sehr robuste Masken- und Waferinspektion benötigen. Die fortschrittlichen Technologien und automatisierten Handhabungsverfahren sorgen dafür, dass ertragskritische Inspektionen präzise und wiederholt durchgeführt werden können. Darüber hinaus bietet Archer Insight Benutzern eine intuitive Plattform zur Verwaltung, Analyse und Berichterstattung von Inspektionsdaten.
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