Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM+ #9186704 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer AIM + ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage der nächsten Generation, die entwickelt wurde, um leistungsstarke Metrologiewerkzeuge für fortschrittliche Halbleitertechnologien bereitzustellen. Das System unterstützt Multisensormessungen mit einer fortschrittlichen Bildgebungstechnologie zur kostengünstigen Erkennung von Defekten und der Genauigkeit der Musterplatzierung im nanometrischen Pegelbereich. Es verfügt über eine einzigartige Mustererkennungsfunktion, die leistungsstarke Lösungen bietet, um Funktionen mit hohem Seitenverhältnis wie Gate-Arrays schnell und genau zu identifizieren. Das Gerät verwendet hochauflösende KLA-Bildgebungstechnologie, um kontrastreiche Bilder mit genauen Ausrichtungs-, Neigungs- und Auflösungsanforderungen zu gewährleisten. Darüber hinaus ermöglicht es die gleichzeitige Inspektion von Wafer-Topographie und globaler Messtechnik und ermöglicht die zuverlässige Erkennung von Musterfehlern auf Features mit hohem Seitenverhältnis. Die Maschine nutzt programmierbare Kantenerkennung, Subpixelsegmentierung und Formfilteralgorithmen sowohl für sichtbares Licht als auch für laserbeleuchtete Lichtbilder zur genauen Identifizierung von Fehlern unabhängig von ihrer Größe sowie zur Musterplatzierung im Nanometerbereich. Das Werkzeug arbeitet in einer Reinraumumgebung und bietet eine breite Palette von Umgebungseinstellungen, einschließlich Feuchtigkeit und Temperatur. Seine beschleunigten Kühl- und Heizfunktionen ermöglichen eine schnelle Anpassung der Messungen an die neuesten internationalen Standards. Die Kombination aus hohem Durchsatz und Genauigkeit macht es zu einer idealen Wahl für Produktionslinien. Es verfügt über benutzerfreundliche GUI, die Bedienung und Datenanalyse vereinfacht. Da das Modell mit einer Reihe von perfekt abgestimmten Kalibriertypen geliefert wird, müssen Anwender bei mühsamen manuellen Aufgaben keine Zeit verschwenden. Darüber hinaus bietet es eine Echtzeit-Analysefähigkeit, die hilft, alle Fehler zu identifizieren, zu klassifizieren und zu verfolgen. Um Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei jeder Inspektion zu gewährleisten, verwendet das Gerät automatische Fokusalgorithmen und Werkzeugerkennung. Die Software enthält eine anspruchsvolle Bibliothek mit Funktionen und Regeln, um Fehler genau zu identifizieren und eine schnelle Fehlererkennung zu ermöglichen. Insgesamt ist KLA Archer AIM + ein fortschrittliches, leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das eine detaillierte Messtechnik der fortschrittlichsten Halbleitermuster bietet. Seine zuverlässigen Ergebnisse sowie seine benutzerfreundliche Oberfläche, schnelle und flexible Bedienung machen es zu einer idealen Wahl für verschiedene Produktionsanforderungen.