Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM+ #9237501 zu verkaufen

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KLA / TENCOR Archer AIM+
Verkauft
ID: 9237501
Wafergröße: 8"-12"
Overlay inspection system, 8"-12".
KLA/TENCOR Archer AIM + ist eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine verbesserte Prozesskontrolle, Ertragsverbesserung und Fehlerreduzierung ermöglicht. Das System bietet beispiellose Auflösung, Empfindlichkeit und Geschwindigkeit bei der Erkennung von Fehlern. Das Gerät besteht aus einem fortschrittlichen optischen Design mit einer hochauflösenden Kamera, einem Bildprozessor und einem proprietären Algorithmus zur Analyse von Bildern. Diese Kombination fortschrittlicher Technologien ermöglicht es der Maschine, Defekte mit einer Größe von bis zu 25 Nanometern zu erkennen. Das Werkzeug ist in der Lage, kritische Musterfehler aufzudecken, die sonst unentdeckt bleiben können, so dass es ideal für die Inspektion der kritischsten Schichten auf Genauigkeit und Präzision ist. Das Asset soll die Interaktion der Betreiber minimieren und den Inspektionsprozess vereinfachen. Die grafische Benutzeroberfläche (GUI) bietet Benutzerfreundlichkeit und intuitiven Zugriff auf alle Einstellungen und Komponenten und ermöglicht eine schnelle und genaue Einrichtung und Echtzeit-Anpassungen. Das Modell ist vollautomatisch und kann auf Wunsch unbeaufsichtigt ausgeführt werden. Das Gerät kann nicht nur Defekte an Masken und Wafern erkennen, sondern auch Variationen kritischer Parameter wie kritische Dimension (CD) und Linienbreite von Mustern. Es hilft, den fehlerfreien Betrieb sicherzustellen, indem es alle Variationen markiert, die die Leistung verändern können. Das System bietet auch umfassende Datenerfassungs- und Analysesoftware, mit der Benutzer Daten speichern und abrufen, Analyse- und Überwachungsprozesse ausführen können. Das Berichtsmodul der Einheit vergleicht die Ergebnisse automatisch mit benutzerdefinierten Kriterien, wodurch Verbesserungsbereiche leicht erkannt werden können. Die einzigartige Kombination von Funktionen der Maschine hilft, die hochwertigsten Masken und Wafer zu gewährleisten. Außerdem spart es Zeit und Ressourcen und bietet gleichzeitig einen höheren Ertrag und eine verbesserte Leistung im Vergleich zu herkömmlichen Inspektionssystemen.
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