Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM+ #9251129 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer AIM + ist eine revolutionäre Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die für hochpräzise Oberflächenbildgebung und dreidimensionale Inspektion von Photomasken, Retikeln und Halbleiterscheiben entwickelt wurde. Das System verwendet ein Rasterelektronenmikroskop, das einen besseren Backscatter-Kontrast, eine ausgezeichnete Low-kV-Bildgebung, eine dynamische Fokusregelung und eine überlegene Auflösung bietet. KLA Archer AIM + ist eine automatisierte Einheit, die blitzschnelle Inspektionszeiten und eine enge Prozesskontrolle bietet - durch ihr einzigartiges Design und den Einsatz fortschrittlicher Algorithmen ist die Maschine in der Lage, schnell sich bewegende Defekte mit konsistenter Genauigkeit zu messen und zu analysieren. Der TENCOR Archer AIM + verwendet fortschrittliche Gerüst- und Transistor-Level-Fehlermesstechnologie und behält automatisch die Ausrichtgenauigkeit von ± 1 µm bei, sowohl auf optischen als auch auf SEM-Systemen, was den Inspektionsprozess erheblich vereinfacht. Das Tool kombiniert einen 100 kV automatisierten gespeicherten Energiedetektor, um elektronische Defekte (EDCs) genau zu identifizieren und zu messen, indem es die einzigartigen Streu- und Röntgensignale erkennt, die sie erzeugen. Seine Hochleistungsoblateneigenschaft der kartografisch darstellenden erlaubt Echtzeitüberwachung des Oblatenertrags, das Versorgen von Prozessingenieuren mit einem vollen Bild des Zustands und des Ermöglichens der Oblate von sie, direkt auf inkonsequente Ertragprobleme zu antworten. Archer AIM + ist eine integrierte und vielseitige Masken- und Wafer-Inspektion, die für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist, von der Fertigung von Front-End-Halbleiterbauelementen bis hin zu optischen High-End-Bauelementen. Die leistungsstarke Optik des Modells kann praktisch jede Merkmalsgröße inspizieren (auch solche unter der Beugungsgrenze) und die große Probenstufe kann problemlos viele Arten von Proben aufnehmen. Das Gerät bietet auch eine zweidimensionale FEOL/BEOL-Abdeckungsscannung, die für die Erkennung von Fehlern auf der Stempelebene ausreicht, und die ausgeklügelten Funktionen der funktionsbasierten Analyse ermöglichen es Benutzern, eine breite Palette von Fehlertypen genau zu identifizieren. Insgesamt ist KLA/TENCOR Archer AIM + eine leistungsstarke, benutzerfreundliche und vielseitige Bildgebungs- und Inspektionslösung, die speziell auf die Anforderungen der Hersteller von Halbleitern, Retikeln und Photomasken zugeschnitten ist. Die integrierte Automatisierung und der Hochgeschwindigkeits-Scanner des Geräts erleichtern die Einrichtung und Bedienung, während die intuitive Benutzeroberfläche gewährleistet, dass Benutzer das Beste aus der Maschine herausholen können. Das Tool liefert auch detaillierte Informationen über die Qualität der Proben und ist in der Lage, Fehler schnell zu erkennen und zu messen, ohne den Prozess zu verlangsamen. Mit seiner außergewöhnlichen Leistung, Genauigkeit und intuitiven Bedienung ist KLA Archer AIM + die perfekte Lösung für die Masken- und Waferinspektion.