Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM #9276702 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9276702
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Overlay inspection system, 12"
SMIF: (2) Loadports (Isoport)
GEN3 Handler
2004 vintage.
KLA/TENCOR Archer AIM ist eine fortschrittliche Maschine-Vision-Maske und Wafer-Inspektion Ausrüstung entwickelt, um hochauflösende, automatisierte Inspektion für Halbleitermaske und Wafer kritische Schichten zur Verfügung zu stellen. Das System kombiniert fortschrittliche Optik und Software, um hochgenaue und sensible Messungen zu ermöglichen, die für die Herstellung und das Design von Halbleiterbauelementen entscheidend sind. Zunächst bietet KLA Archer AIM hochauflösende Optik- und Bildgebungsfunktionen mit ultraschneller Scanrate. Dadurch kann das Gerät schnell und präzise Bilder von Masken- und Wafer-kritischen Schichten erhalten. Die Kamera- und Optikkombination ist in der Lage, feinste Details und Details unterhalb der Wellenlänge des sichtbaren Lichts aufzunehmen. Darüber hinaus kann die Maschine kleine Änderungen in der Maske und der Waferschicht mit ultrahoher Empfindlichkeit erkennen und messen, um lithografische Defekte bis zu 0,01 µm zu erkennen und aus Spezifikationsmerkmalen wie Linienkantenrauhigkeit, Linienbreitenrauhigkeit, Fehlerdichte, Dosis-zu-Größe, Wiederholbarkeit, Gleichmäßigkeit und mehr zu erkennen. Um Genauigkeit und Konsistenz in der Masken- und Waferinspektion zu gewährleisten, ist TENCOR Archer AIM mit mehreren felderprobten Bildverarbeitungsalgorithmen und erweiterten analytischen Fähigkeiten konzipiert. Diese Reihe von Algorithmen und Software sind in der Lage, Anomalien wie Kontamination, Musterverformung und kleine oder dünne Linien zu erkennen und zu messen. Darüber hinaus ist die Software mehrdimensional, da sie in der Lage ist, Masken und Wafer aus jeder Orientierung und aus jedem Winkel oder jeder Richtung zu messen. Dies ermöglicht eine umfassendere Inspektion und Analyse kritischer Schichten. Die Software verfügt auch über ein integriertes Fehlerüberprüfungsmodul, mit dem Benutzer Fehler gründlicher überprüfen und analysieren können. Diese Daten können zur Erstellung von Berichten, Grafiken und Bildern verwendet werden, um Fehler zu identifizieren und zu klassifizieren. Die Berichte können dann ggf. mit anderen Mitarbeitern oder Abteilungen zur Überprüfung geteilt werden. Darüber hinaus ist Archer AIM mit einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche (GUI) konfiguriert, mit der Bediener das Werkzeug schnell und einfach konfigurieren und Prüfergebnisse anzeigen können. Flexible Hardware- und Softwareoptionen stehen zur Verfügung, um den Anforderungen spezifischer Masken- und Waferinspektionsanwendungen gerecht zu werden. Insgesamt ist KLA/TENCOR Archer AIM eine leistungsstarke und zuverlässige Machine-Vision-Maske und Wafer-Inspektion, die für höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit ausgelegt ist.
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