Gebraucht KLA / TENCOR Archer XT+ #9256573 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer XT + ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die anspruchsvollsten Prozesssteuerungsanwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System verwendet fortschrittliche automatisierte Messtechniken und fortschrittliche Software, um schnelle, lokalisierte Messungen von Produktions- und Forschungswafern bereitzustellen. Die KLA Archer XT + -Einheit verwendet eine einzigartige Zweistrahl-Bildverarbeitungsmaschine, um hochauflösende Bilder von Halbleitermerkmalen zu liefern, einschließlich Gate-Schichten, Polysilizium-Mustern und Diffusionslinien. Das Tool bietet automatisierte Messtechnik in mehreren Auflösungsstufen, von visuellen Übersichten bis zur Charakterisierung von Funktionen im Nanometermaßstab. Dies ermöglicht die genaue Bestimmung von KE-Parametern, einschließlich Linienbreite, Overlay-Ausrichtung, kritischen Abmessungen (CD) und Prozessvariationen. Durch den Einsatz des optionalen integrierten Sekundärelektronen-Bildvermögens (SEI) können TENCOR Archer XT + Anwender auch die Oberflächeneigenschaften von Wafern untersuchen. Archer XT + Modell bietet auch eine Inline-Bildgebungsfähigkeit, mit optionalen Systemen für digitale Bildkorrelation (DIC) und maskenlose Bildgebung. Auf diese Weise können die Geräte schnell Maskenmuster analysieren und detaillierte Bilder für Fehlerinspektionen erzeugen. Mit dem Hinzufügen eines AreaGap Systems kann KLA/TENCOR Archer XT + zur Abbildung und Charakterisierung dreidimensionaler (3D) Muster konfiguriert werden. Das Gerät ist auch mit fortschrittlichen Softwareanwendungen für Datenanalyse, Fehlererkennung und Prozesssteuerung ausgestattet. Integrierte Produktivitäts-Tools ermöglichen es Benutzern, umfassende Berichte über Fehlerkategorien, Photomasken-Varianz und andere wichtige Kennzahlen für die Prozesskontrolle zu erstellen. Diese Anwendungen, kombiniert mit den hochauflösenden messtechnischen Funktionen von KLA Archer XT +, bieten Anwendern hohe Genauigkeit, schnelle Durchlaufzeiten und verbesserte Prozesskontrolle.