Gebraucht KLA / TENCOR Archer #9152895 zu verkaufen

KLA/TENCOR Archer ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung von Defekten auf Nanometerebene. Es besteht aus einer Subscan Path Unit (SPU), einem Imaging System und einer Computer Aided Design (CAD) Einheit. Die SPU besteht aus zwei motorisierten Tabellen, die sich in X- und Y-Richtung bewegen und das Scannen einer Probe in den X-, Y- und θ-Achsen ermöglichen. Die sekundären und primären Scanner sind die Komponenten, die verwendet werden, um Bilder der Proben zu erfassen. Der Sekundärscanner weist eine CCD-Kamera auf, die ein digitales Bild der Probe erfasst, und eine Laserdiode, die die Stufenhöhe der Probe misst. Der auf der SPU montierte Primärscanner umfasst sowohl eine CCD-Kamera als auch eine Laserdiode, die zur Fokussierung und zur hochauflösenden Abbildung dient. Die CAD-Maschine dient zum Speichern und Organisieren der Daten und zum Erstellen einer Maske oder eines Layouts des zu inspizierenden Musters. KLA Archer inspiziert Defekte durch eine Vielzahl von Techniken wie Licht- und Dunkelfeld-Bildgebung, Phasenkontrast-Bildgebung und Bildsubtraktion. Die Lichtabbildung verwendet Licht hoher Intensität, um das Vorhandensein von Defekten durch die Intensität des reflektierten Lichts zu detektieren. Die Dunkelfeldabbildung verwendet Licht mit niedrigerer Intensität als Referenz und erkennt Defekte durch die Variation der Intensität des reflektierten Lichts. Die Phasenkontrastbildgebung dient zum Nachweis der Grenzfläche zwischen Oxid- und Siliziumscheiben. Die Bildsubtraktion wird verwendet, um das Oberflächenbild von einem Referenzbild zu subtrahieren, um Änderungen in den Oberflächenmerkmalen zu erkennen. Das Tool verfügt auch über eine erweiterte Bildverarbeitungsfunktion, die potenzielle Anomalien identifiziert und Anomalien mit hoher Genauigkeit erkennt. Zusätzlich kann TENCOR Archer in bestehende Prozessabläufe integriert werden, um bestehende Materialanalysen, Fehlerdiagnosen, Steuerung und Ertragsmanagement zu verbessern. Durch seine duale Auflösungstechnologie kann das Asset Fehler auf kleinen Flächen, wie Kontaktlöcher, erkennen und korrigieren. Schließlich erfasst das Modell automatisch Messungen und kann Daten in Standardformaten speichern. Diese Daten werden zur Analyse von Trends, zur Erstellung von Berichten und zur Verbesserung der Datenerfassung verwendet. Insgesamt ist Archer eine automatisierte, Hochgeschwindigkeits-, hochauflösende Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Durch die Bereitstellung von Fehlererkennung auf Nanometerebene ist dieses System für die Fehlererkennung in einer Vielzahl von Branchen geeignet, einschließlich Halbleiter, Flachbildschirm und Plattenlaufwerkherstellung.