Gebraucht KLA / TENCOR AWUS 3110 #9236712 zu verkaufen

KLA / TENCOR AWUS 3110
ID: 9236712
Wafergröße: 8"
Wafer inspection system, 8".
KLA/TENCOR AWUS 3110 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein zuverlässiges, leistungsstarkes Vollfeldinspektionssystem, das entwickelt wurde, um den Ertrag zu verbessern, die Kosteneffizienz zu steigern und eine schnelle und präzise Fehleranalyse für kritische Prozesskontrollanwendungen zu ermöglichen. Das Gerät verwendet fortschrittliche, hochauflösende Optik, schichtbasierte Mustermessungen optischer Parameter und eine verbesserte Signalverarbeitung, um eine hohe Inspektionsempfindlichkeit und verbesserte Datenanalysefunktionen zu bieten. Dies bedeutet, dass Benutzer hochauflösende Bilder von Fehlerstellen mit erhöhter Genauigkeit und Kontrast zur sofortigen Fehlererkennung sowie glasklare Bilder von Geräteschichten zur verbesserten Mustererkennung erhalten. KLA AWUS 3110 Mask & Wafer Inspection Machine verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine einfache Navigation im gesamten Werkzeug ermöglicht, und bietet eine breite Palette von Optionen für die Inspektion verschiedener Arten von Wafern und Masken, einschließlich Vollfeld-, mehrstufige und mikroskopische Inspektion. Es verfügt über eine genaue und stark wiederholbare automatisierte Fokusfunktion, die schnelle Fokusmessungen mit Echtzeitprofilen ermöglicht, die zur Prozessoptimierung verwendet werden können. Es beinhaltet einen erweiterten Fehlererkennungsalgorithmus, der falsche Fehleranrufe zurückweist, Inspektionsfehler und Produktionsschrott reduziert. Die umfangreichen Messfunktionen des Vermögenswertes helfen, subtile Fehler zu erkennen, die zu einer Reduzierung des Ertrags führen könnten. Ein verbesserter Bildanalyse-Algorithmus und ein automatisiertes Fehlerklassifizierungsmodell ermöglichen eine schnelle und schlüssige Datenanalyse zur Problemlösung und Prozesskontrolle. Das Gerät verfügt über eine patentierte laserabtastbare Overlay-Schicht, die sowohl für die Masken- als auch für die Wafer-Inspektion verwendet wird, um die Datengenauigkeit und -konsistenz während des gesamten Prozesses sicherzustellen. Neben seiner leistungsstarken und präzisen Leistung ist das TENCOR AWUS 3110 Mask & Wafer Inspection System auf maximale Zuverlässigkeit mit schnellen Durchsätzen und hoher Stabilität ausgelegt. Das Gerät hilft Benutzern, Zykluszeiten zu reduzieren, die Erträge zu verbessern und schnellere Markteinführungszeiten zu ermöglichen. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Wafern, Fremdmaterial und Defektarten zu handhaben und wird von hochqualifizierten und erfahrenen technischen Support-Mitarbeitern unterstützt.
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