Gebraucht KLA / TENCOR Candela 7100 #293798768 zu verkaufen

KLA/TENCOR Candela 7100 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung zur Verbesserung der bildgebenden Klarheit und Genauigkeit komplexer Masken- und Wafer-Designs. Es kombiniert eine einzigartige mehrschichtige Mikrokaustik-Bildgebungstechnologie mit schneller, präziser Sub-Mikron-Optik. Die Basis des Systems KLA Candela 7100 ist die mehrschichtige bildgebende Technologie, die eine hervorragende bildgebende Auflösung bei gleichzeitiger Unterdrückung von Oberflächendefekten liefert. Das Gerät verfügt über zwei unabhängige, mehrschichtige Kameras, die es ermöglichen, beide Seiten einer Maske/eines Wafers gleichzeitig mit viel Detail zu inspizieren. Die Kameras integrieren auch erweiterte Optik für erweiterte Fokussierung für optimale Bildleistung. Fortgeschrittene Algorithmen werden verwendet, um Bilddaten zu analysieren, die von den Kameras in der Maschine erfasst werden. In TENCOR Candela 7100 verwendete Algorithmen wurden entwickelt, um Fehler zu erkennen, zu bewerten und als inakzeptabel, potenziell akzeptabel oder akzeptabel einzustufen. Dies erleichtert die schnelle Erkennung von Problemen, die Aufmerksamkeit erfordern. Das Tool enthält eine Vielzahl von Bildverarbeitungswerkzeugen, um die Klarheit der Bilder zu verbessern. Automatisierte Bildregistrierungsfunktionen ermöglichen die Untersuchung und Korrelation von Masken und Wafern mit verschiedenen Genauigkeits- und Detailebenen. Darüber hinaus unterstützen die Bildverarbeitungstools von Candela 7100 eine automatisierte Bildanalyse auf Pixel-für-Pixel-Basis. Dies hilft, Probleme zu identifizieren, die möglicherweise nicht leicht sichtbar sind, wie kleine Partikel oder Verzerrungen. KLA/TENCOR Candela 7100 kann sowohl Masken als auch Wafer mit einer maximalen Mustergröße von bis zu 4.000 μ m x 4.000 μ m inspizieren. Es bietet x-, y- und θ-Bühnenbewegung für Einfokusebene und Mehrfokusebene Bildgebung. Es unterstützt auch die Erweiterung von Sichtfeldern und Funktionen wie Zuschneiden, Drehen und Verschieben, um eine verbesserte Bildauflösung zu ermöglichen. Die Anlage wurde entwickelt, um Maske und Wafer mit Geschwindigkeiten von bis zu 500 um/s oder schneller zu überprüfen. Zusammenfassend ist KLA Candela 7100 ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das eine hochauflösende Bildgebung und präzise Sub-Mikron-Optik bietet. Das Gerät umfasst mehrere Bildverarbeitungswerkzeuge und anpassbare Algorithmen zur Fehlererkennung, -analyse und -klassifizierung. Es bietet schnelle, zuverlässige Inspektionsdienste mit verbesserter Bildauflösung und Bildregistrierungsfunktionen.