Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS20 #293772319 zu verkaufen

ID: 293772319
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2006
Surface measurement system, 6" Illumination source: 8mW Operator interface: Tracball and keyboard standard Substrate thickness: 350 µm-1100 µm Substrate material: Any clear / Opaque polished surface Defect sensitivity: 0.08 µm Scratches: 100 µm Stain: 20 µm Opaque substrates EPI Layer Transparent film coatings: SIC, GaN, Sapphire Parameters: Ra / Rq / Wa / Wq Cassette handling: Single puck with up to 200m Operating environment specifications: Voltage supply: < ±10% Environment: Class 1000 / Better recommended Air: CDA 95-110 psi, 2 CFM Equipment: Pollution degree 2 Power supply: 8A Computing system: Hard drive: 200 gb RAM: 2 gb Ethernet: Network card Operating system: Microsoft windows XP 2006 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die ein wesentliches Werkzeug im Halbleiterherstellungsprozess ist. Dieses System wurde entwickelt, um hochauflösende Bildgebungs- und Analysefunktionen zur Erkennung von Defekten und zur Gewährleistung der Qualität von Masken und Wafern zur Herstellung integrierter Schaltungen bereitzustellen. Im Zentrum der KLA CANDELA CS-20 steht die fortschrittliche optische Technologie, die es dem Gerät ermöglicht, extrem detaillierte Bilder von Masken und Wafern mit außergewöhnlicher Klarheit und Präzision zu erfassen. Die Maschine verwendet eine Kombination aus Hellfeld- und Dunkelfeldbeleuchtungstechniken, um Defekte und andere Unvollkommenheiten aufzudecken, die auf den Oberflächen dieser kritischen Komponenten vorhanden sein können. Die hochauflösenden bildgebenden Fähigkeiten von TENCOR CANDELA CS 20 ermöglichen die Erkennung von Defekten, die nur wenige Nanometer groß sind, so dass auch die kleinsten Fehler während des Herstellungsprozesses identifiziert und behoben werden. Eines der Hauptmerkmale von Candela CS20 ist seine Fähigkeit, schnelle und automatisierte Inspektionen von Masken und Wafern durchzuführen, die eine Hochdurchsatzanalyse großer Anzahl von Komponenten in kurzer Zeit ermöglichen. Das Tool ist mit fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmen ausgestattet, die Fehler und Anomalien schnell und genau identifizieren können, wodurch Hersteller hohe Qualitätskontrollen aufrechterhalten und die Zuverlässigkeit und Konsistenz ihrer Produkte gewährleisten können. Neben seinen bildgebenden Funktionen bietet CANDELA CS 20 auch eine Reihe von analytischen Tools und Funktionalitäten, die es Anwendern ermöglichen, detaillierte Analysen von Defekten und anderen Funktionen an Masken und Wafern durchzuführen. Das Asset kann 3D-Darstellungen von Oberflächen erzeugen, die eine eingehende Charakterisierung von Defekten ermöglichen und wertvolle Einblicke in ihre Morphologie und Verteilung bieten. Benutzer können auch statistische Analysen von Fehlerdaten durchführen, um Trends und Muster zu identifizieren, die auf zugrunde liegende Probleme im Herstellungsprozess hinweisen können. TENCOR Candela CS20 ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen, mit einer intuitiven Benutzeroberfläche, mit der Benutzer Inspektionen schnell einrichten und durchführen können. Das Modell kann für eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben konfiguriert werden, von routinemäßigen Qualitätskontrollen bis hin zu tiefergehenden Analysen spezifischer Merkmale oder Mängel. Benutzer können Prüfparameter und -kriterien an ihre spezifischen Anforderungen anpassen und sicherstellen, dass die Ausrüstung den einzigartigen Anforderungen ihres Fertigungsbetriebs entspricht. Insgesamt ist CANDELA CS-20 ein hochmodernes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das einzigartige Bildgebungs- und Analysefunktionen für Halbleiterhersteller bietet. KLA/TENCOR CANDELA CS-20 bietet mit seiner fortschrittlichen optischen Technologie, hochauflösenden Bildgebungsfunktionen und ausgefeilten Analysewerkzeugen eine leistungsstarke Lösung zur Erkennung von Defekten und zur Gewährleistung der Qualität und Zuverlässigkeit von Masken und Wafern, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden.
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