Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS20 #9366062 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9366062
Weinlese: 2009
Surface measurement system, missing parts
Mapping board missing
Laser wavelength: 405 nm
P/N: 013758
2009 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage für sensible und komplexe bildgebende Anwendungen. Dieses System basiert auf KLA-Bildgebung, Analytik und intelligent integrierten Workflow-Lösungen, um den effizientesten Masken- und Waferinspektionsprozess zu ermöglichen. Das Gerät ist auf kostengünstige Kosten pro Fehlerabdeckung in der Produktionsumgebung optimiert. Der CS20 verwendet fortschrittliche Algorithmen, um die häufigsten Unvollkommenheiten auf Masken und Wafern zu erkennen. Es verfügt über eine CCD-Kamera, die digitale Bilder mit einer Auflösung von 12 μ m aufnehmen kann. Diese Kamera ist mit einem Blickfeld-Lichtweg ausgelegt, der Vignettierung eliminiert und eine gleichmäßige Beleuchtung des gesamten Masken- und Wafersichtfeldes ermöglicht. Darüber hinaus bietet die Maschine eine breite Palette von automatisierten Mustererkennungsoptionen, um höchste Prüfgenauigkeit zu gewährleisten. Es ist mit einer Reihe von Hochleistungsbeleuchtungs-, Ausrichtungs- und Z-Sensorfunktionen ausgestattet, um genaue und gründliche Inspektionen zu liefern. Es unterstützt auch mehrere funktionale Gruppenmanagementfunktionen wie Fehleranalyse (automatische Klassifizierung) und Datenerfassung (online/offline), um eine schnelle Erkennung von Fehlern und anderen Unregelmäßigkeiten zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das CS20 über eine leistungsstarke Analysesuite, die umfassende Funktionen zur Ergebnissammlung auf Waferebene, Stanzebene und Produktebene bietet. Diese Kombination aus automatisierter Fehlererkennung, Fehlerklassifizierung und Trendanalysen schafft ein umfassendes Paket, das die Wafer- und Maskenausbeute deutlich verbessert. Das Tool ist in der Lage, Hunderte von Wafern pro Stunde zu betreiben, effizient und präzise, mit schnellen Rüstzeiten und den höchsten Leistungsstufen. Das CS20 ist ideal für Halbleiterhersteller, die nach einem effizienten und zuverlässigen Weg suchen, Muster auf Wafern und auf Masken zu erkennen. Es wurde entwickelt, um die Inspektionszeit zu reduzieren, die Testabdeckung zu verbessern, Anomalien zu verringern und Erträge zu maximieren. Diese Anlage ist die perfekte Wahl für diejenigen, die nach modernsten Inspektionslösungen für ihre Produktionslinien suchen.
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