Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS20R #293605955 zu verkaufen

ID: 293605955
Weinlese: 2011
Surface measurement system 2011 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20R ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die entwickelt wurde, um Photomasken-, IC-Layout- und IC-Lithographiefehler genau zu messen und zu erkennen. Das System verfügt über einen 2048 x 2048 Pixel Detektor, die höchste Auflösung für jede Reparatur Auflösung Maske und Wafer Inspektionseinheit derzeit zur Verfügung stellt. Es enthält auch eine Multi-Achsen-Scan-Stufe, bietet schnelle Inspektion und Ausrichtung Fähigkeiten, und eine hohe Intensität Lampenkopf genaue Messungen zu gewährleisten. Die Maschine ist auch mit einer Vielzahl von fortschrittlichen Prozesssteuerungen ausgestattet, einschließlich Verzögerungszeit und Bildoptimierung. KLA CANDELA CS 20R verwendet fortschrittliche Optik- und Mustererkennungsalgorithmen für Maskenrevision, Inspektionen und Wafer-Charakterisierung. Dieses Werkzeug verfügt über eine neu entwickelte Metall-Oxid-Halbleiter (MOS) Vorwärtsansichtskamera und eine Rückfahrkamera. Die Asset-Aufgaben strukturierte Wafer mit Subpixelauflösung, während die Metall-Oxid-Halbleiter (MOS) Vorwärtsansicht Kamera verwendet wird, um die Wafer auszurichten und die Rückansicht-Weg-Kamera bietet genaue Messungen der Wafer. Das Modell ist auch mit einer Reihe von Software-Tools und proprietären Algorithmen ausgestattet, um die Erkennung von Fehlern im Design zu gewährleisten, bevor sie auf dem Wafer beobachtet werden können. Darüber hinaus unterstützt die Anlage den Einsatz automatisierter Fehlererkennungs- und Klassifizierungsprozesse. TENCOR CANDELA CS-20 R verfügt über mehrere Funktionen, die für die Überarbeitung der Maske und Lithographie von Vorteil sind. Seine Bildoptimierungsfunktion sorgt für eine genaue Kolorierung der Retikel, während seine Verzögerungs- und Überlappungs-Scan-Funktionen eine effektive Positionierung und Abtastung von Patches gewährleisten. Seine schnellen Inspektionsgeschwindigkeiten bieten die schnellste und höchste Auflösung für die derzeit verfügbare Masken- und Waferinspektion. Das System ist auch kompatibel mit Windows- und UNIX-Systemen für einfache Installation und Verwendung. TENCOR CANDELA CS 20 R ist eine zuverlässige und effektive Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die Ergebnisse der nächsten Generation für Photomaske, IC-Layout und IC-Lithographie-Kunden liefert. Es wurde entwickelt, um eine schnelle Inspektion und Klassifizierung von Fehlern zu ermöglichen, während seine Reihe von fortschrittlichen Prozesskontrollen und integrierten Korrekturmaßnahmen für jeden Prozess, der an der IC-Fertigung beteiligt ist, von Vorteil sind. Die Maschine ist sowohl stabil als auch wirtschaftlich und bietet eine erschwingliche Lösung für Maskierungs- und Photolithographie-Inspektionen.
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