Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS20R #293609511 zu verkaufen

KLA/TENCOR Candela CS20R ist ein Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das in einer Vakuumumgebung arbeitet und zur automatisierten Charakterisierung und Fehleranalyse von Wafern und Masken verwendet wird. Das CS20R verfügt über eine 300mm-Stufe, die eine hochgenaue Ausrichtung, Musterung und Messung von Ober- und Querschnittsbildern ermöglicht. Die integrierten Filter verbessern die Bildgebungsgenauigkeit und ermöglichen eine laterale Bildgebung über einen weiten Wellenlängenbereich. Die CS20R verwendet sowohl Helligkeits- als auch Dunkelfeldbildtechniken, um das vollständige omnidirektionale Reflexionsvermögen der Masken- oder Waferoberfläche zu erfassen. Daten werden über die Fluoreszenzkorrelationsspektroskopie (FCS) erfasst, um mögliche Defekte, wie Kratzer und geätzte Muster, auf der Maske oder dem Wafer zu erkennen. Die Multistrahl-LensEngine des Systems erfasst Daten sowohl von den Ober- als auch von den Unteransichtsbildern. Es wurde für Kontrast, Tonalität und Mustererkennung über ein weites Sichtfeld optimiert. Das CS20R ist auch mit fortschrittlicher Datenerfassungs- und Analysesoftware ausgestattet. Es ist in der Lage, große Datenmengen in kurzer Zeit mit minimalem Benutzereingriff zu analysieren. Durch die Analyse erzeugte Statistiken können dann zur Entscheidungsfindung und Rückmeldung der Ergebnisse herangezogen werden. Das CS20R ist so konzipiert, dass es in einem hermetisch abgedichteten Gehäuse untergebracht werden kann. Dies hilft, die Umweltkontrolle zu verbessern und Störungen durch Staub, Schmutz und andere Elemente zu minimieren, die die Genauigkeit der gesammelten Daten beeinflussen können. Das CS20R wurde so konzipiert, dass es zuverlässig und effizient ist. Es kann schnell alle Fehler oder Unregelmäßigkeiten an den Masken und Wafern erkennen und bietet Benutzern die erforderlichen Daten, um genaue Entscheidungen zu treffen. Die KLA CANDELA CS 20R ist mit ihrer fortschrittlichen bildgebenden Technologie und Software ein zuverlässiges und kostengünstiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem.