Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS20R #9276235 zu verkaufen

KLA/TENCOR Candela CS20R ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage für kritische Dünnschicht- und Strukturmesstechnik-Anwendungen. Seine angetrieben durch KLA Signatur Nanometer fokussierte Ionenstrahl (NFIB) Technologie, die es ermöglicht, schnelle, wiederholbare und genaue Messungen im Sub-10nm-Regime zur Verfügung zu stellen. Damit eignet sich das System ideal für die Qualitätskontrolle und Qualitätssicherung, insbesondere für die Präsentation von Halbleiter-, optischen und Display-Komponenten. Das CS20R verfügt über ein vollautomatisches Design, das es effizient und benutzerfreundlich auch für diejenigen, die neu in der Messtechnik sind. Es verfügt über eine große doppelbreite Probenkammer, die Geräte mit einem Durchmesser von bis zu 12 "aufnehmen kann und bis zu 2 Stufen gleichzeitig für eine schnellere Inspektion steuern kann. Es verfügt über ein Field of View (FOV) von bis zu 80mm, das ideal für die vollständige 360 ° -Inspektion ist, sowie eine patentierte Linienabtastfähigkeit, die eine bis zu 1000fache Vergrößerung und dynamische Vollfeld-Bildnähte ermöglicht. KLA CANDELA CS 20R ist mit einer patentierten AutoDefect Inspection (ADI) -Software ausgestattet, die es dem Gerät ermöglicht, Fehler aus einer Vielzahl von Quellen zu erkennen, einschließlich Fehler wie Flecken, Nadelöcher, Schlupf und Anomalien. Die Software verfügt auch über automatisierte Probenahmefunktionen, so dass die Maschine das gesamte Gerät ohne manuellen Eingriff probieren und inspizieren kann. Auf der Berichtsseite kann TENCOR CANDELA CS-20 R automatisch detaillierte Berichte generieren, die alle kritischen Datenpunkte enthalten, einschließlich Messergebnisse, Gerätetyp, Größe und Zustand. Dies hilft, Fehler schnell zu erkennen, ohne dass dieselben Daten mehrfach überprüft werden müssen. Das Tool verfügt auch über integrierte Qualitätssicherungsfunktionen, so dass die Musterakzeptanz schnell und effizient ist. Zusammenfassend ist KLA Candela CS20R eine umfassende Masken- und Wafer-Inspektion, die für hochpräzise messtechnische Anwendungen entwickelt wurde. Es verfügt über ein robustes Design, eine intuitive Benutzeroberfläche und eine leistungsstarke NFIB-Technologie, die schnelle, wiederholbare und genaue Messungen bis zum Nanometerstand ermöglicht. Es ist ideal für den Einsatz in Halbleiter-, optischen und Display-Anwendungen und ist mit fortschrittlicher Fehlererkennungssoftware und Qualitätssicherungsfunktionen ausgestattet.