Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS20V #9262876 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9262876
Weinlese: 2017
Surface measurement systems, 4" - 6"
Process: LED PSS
Sapphire, 4”
2017 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS20V ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die entwickelt wurde, um Fehlererkennungs- und Prozessüberwachungsfunktionen für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse bereitzustellen. Das System wurde entwickelt, um Fehler in Masken, Retikeln, Photomasken und Wafern mit minimalem Benutzereingriff zu erkennen. Es ist mit modernster digitaler Bildgebungstechnologie ausgestattet, die ein schnelles Wafer-Scannen ermöglicht. Das Gerät verfügt über einen vollautomatischen optischen Werkzeugkopf, der in der Lage ist, Masken oder Reticles schnell zu scannen. Der Werkzeugkopf wird von einem Hochgeschwindigkeitsmotor angetrieben und enthält einen hochauflösenden optischen Scanner, der Bilder von kritischen Gerätefunktionen genau erfassen kann. Die Bilder werden dann von einer Hochleistungs-Bildverarbeitungsmaschine verarbeitet, die winzige Fehler bis auf 1 Mikron erkennen kann. KLA CANDELA CS 20 V verfügt auch über eine Multi-Zone Auto-Fokus-Option, die den Fokus des optischen Werkzeugs automatisch anpasst, um die Zeit, die erforderlich ist, um genaue Bilder zu erhalten, drastisch zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt das Asset über ein erweitertes Fehlerüberprüfungsmodell, mit dem ausgefallene Fehlerstandszustände sofort erkannt werden können. Diese Fehlerüberprüfungseinrichtung bietet auch die Möglichkeit, Fehler genau zu messen, um zwischen Fehlalarmen und kritischen Fehlern zu unterscheiden. Das System ist für eine einfache Bedienung mit einer Touchscreen-Benutzeroberfläche und einer grafischen Benutzeroberfläche (GUI) konzipiert. Auf diese Weise können Techniker Wafer-Scanaufträge schnell planen und erweiterte Scanparameter definieren. Das CS20V verfügt zudem über ein leistungsstarkes Statistikanalysemodul, das Prozesstrends nachverfolgen und Erträge optimieren kann. Insgesamt ist TENCOR CANDELA CS 20-V eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionseinheit, die Halbleiterherstellern helfen soll, auf dem sich ständig verändernden Halbleitermarkt wettbewerbsfähig zu bleiben. Die Maschine verfügt über robuste digitale Bildverarbeitungsfunktionen, ein fortschrittliches Fehlerüberprüfungstool und eine intuitive Benutzeroberfläche, was sie zu einer idealen Wahl für Hersteller macht, die ihren Prozess optimieren möchten.
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